[发明专利]一种双结构绒面Cu2O薄膜及其制备方法

摘要

本发明涉及金属氧化物薄膜及其制备方法，尤其是涉及一种双结构绒面Cu2O薄膜及其制备方法。本发明利用射频平衡磁控溅射镀膜系统，通过施加正、负衬底偏压，一方面诱使溅射Cu原子在正在沉积的薄膜表面尖端处进行选择性优先沉积，然后与腔室中残余的氧发生接触氧化成Cu2O分子，另一方面诱使薄膜体系尽可能地降低能量，沿（111）方向生长并在薄膜表面形成（111）面的棱锥结构，从而获得双结构绒面Cu2O薄膜。本发明制备的Cu2O薄膜的可见光平均反射率与所施加的衬底偏压密切相关，通过控制衬底偏压能够可控制备不同反射率的双结构绒面Cu2O薄膜，具有环保、简易、减反射性能良好等优点，在薄膜太阳能电池等领域具有潜在应用前景。

主权项

一种双结构绒面Cu2O薄膜，其特征在于：所述Cu2O薄膜表面棱锥和多孔双结构并存，其中棱锥的平均边长为48～71nm，多孔的平均孔径为13～21nm；所述薄膜厚度为200nm；所述薄膜具有明显的(111)择优取向；所述Cu2O薄膜在可见光波段的平均反射率为12.5～14.4％。