[发明专利]一种抗紫外光的OLED结构及制备方法有效
| 申请号： | 201510515303.1 | 申请日： | 2015-08-20 |
| 公开（公告）号： | CN105118393B | 公开（公告）日： | 2018-06-01 |
| 发明（设计）人： | 未治奎 | 申请（专利权）人： | 上海和辉光电有限公司 |
| 主分类号： | G09F9/33 | 分类号： | G09F9/33;H01L27/32;G02B1/10 |
| 代理公司： | 上海申新律师事务所 31272 | 代理人： | 俞涤炯 |
| 地址： | 201506 上海市金山区*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及显示装置技术领域，尤其涉及一种抗紫外光的OLED结构及制备方法，于OLED结构的TP层与POL层之间设置至少一层能够截止紫外光透射的光学保护膜，并可通过调节该光学保护膜的折射率，以实现阻止紫外光照射至OLED结构中，进而有效减轻紫外线(紫外光)对OLED结构中的偏光板线偏部件PVA所造成的损害，从而大大提高产品品质和延长产品的寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 紫外光 光学保护膜 制备 紫外光照射 产品品质 显示装置 偏光板 折射率 紫外线 透射 截止 损害 | ||
【主权项】：
1.一种抗紫外光的OLED结构，其特征在于：所述OLED结构包括TP层以及POL层，于所述TP层与所述POL层之间设置至少一层用以截止紫外光透射的光学保护膜；所述光学保护膜包括调节层和固定层，所述固定层设置于所述调节层与所述POL层之间；所述调节层包括第一调节层和第二调节层；所述第一调节层和所述第二调节层中掺杂有纳米级半导体材料，以使得所述第一调节层及所述第二调节层满足公式(1)和公式(2)的要求，其中R1 ＝(n1 -n2 )2 /(n1 +n2 )2 公式(1)R1 为所述第一调节层与所述第二调节层接触面的反射率；n1为所述第一调节层的折射率；n2 为所述第二调节层的折射率；R2 ＝(n3 -n2 )2 /(n3 +n2 )2 公式(2)R2 为所述第二调节层与所述固定层接触面的反射率；n3 为所述固定层的折射率；n2 为所述第二调节层的折射率。
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