[发明专利]一种硼硅酸盐玻璃/h‑BN复相陶瓷及其制备方法

摘要

本发明公开了一种硼硅酸盐玻璃/h‑BN复相陶瓷及其制备方法，属于陶瓷制备技术领域。按质量百分比，准备氧化硅50％～80％，氧化硼10％～30％，氧化钠5％～20％，之后加入0～30wt％的h‑BN。混合得到混合粉末，放入烘箱干燥、之后进行造粒。对得到的粉体进行预压，得到生坯，再进行冷等静压处理，之后将生坯放入空气炉排胶，制得成型体，将上述成型体放入烧结炉中，抽真空或通入一定保护气氛，升温到700℃～1200℃保温1～5h，获得硼硅酸盐玻璃/h‑BN复相陶瓷烧结体。本发明利用玻璃相所产生的剪切力及其原位剥离作用实现h‑BN的原位纳米化，优化了氮化硼纳米复相陶瓷的制备方法。制得的氮化硼纳米复相陶瓷可广泛应用于冶金、化工、机械、电子、原子能、宇宙航行等军事工程科学技术和工业生产中。

主权项

一种硼硅酸盐玻璃/h‑BN复相陶瓷的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：1)以质量百分比计，取50％～80％的氧化硅、10％～30％的氧化硼及5％～20％的氧化钠作为硼硅酸盐玻璃原材料，然后掺入硼硅酸盐玻璃原材料总质量5％～30％的h‑BN，混合均匀，制得混合粉末；h‑BN是经过预氧化、表面被氧化硼包覆的h‑BN；2)将混合粉末干燥、过筛后称重，加入混合粉末质量0.3％～1％的PVA溶液和混合粉末质量0.1％～0.2％的甘油进行造粒，经研磨、预压后粉碎、过筛，制得粒径均匀的球形颗粒；3)将步骤2)制得的球形颗粒模压成型后，经冷等静压，得到坯体；4)将坯体排胶后，制得成型体；排胶时分两阶段进行升温处理：第一阶段以360℃/h的升温速率升温到180～250℃，保温0.5～2h；第二阶段以5～10℃/h的升温速率升温到400～500℃，保温2～4h；5)在真空或保护气氛下，将成型体以5～15℃/min的升温速率升温到750℃～850℃，保温1～5h，制得硼硅酸盐玻璃/h‑BN复相陶瓷烧结体；其中，步骤2)研磨时间为10～20min；干燥后的混合粉末过200目筛；研磨、预压后粉碎过40目筛，制得粒径均匀的球形颗粒。