[发明专利]用于化学气相沉积的进气口元件及其制造方法有效
申请号: | 201510494081.X | 申请日: | 2009-12-03 |
公开(公告)号: | CN105420688B | 公开(公告)日: | 2019-01-22 |
发明(设计)人: | 米哈伊尔·贝鲁索夫;博扬·米特洛维克;耿·莫伊 | 申请(专利权)人: | 威科仪器有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人: | 黎艳 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 用于化学气相沉积反应器(10)的进气口元件由多个长形的管状元件(64,65)构成,该多个长形的管状元件相互肩并肩地设置在一个垂直于反应器上下游方向的平面上。所述管状元件具有用于沿下游方向排放气体的进气口。晶片载体(14)绕着上游至下游的轴旋转。气体分布元件可以提供这样的气体分布模式:气体分布关于延伸穿过所述轴的中间平面(108)为非对称。 | ||
搜索关键词: | 用于 化学 沉积 进气口 元件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种用于化学气相沉积反应器的进气口元件,其特征在于,包括:多个长形元件,这些长形元件相互平行延伸并相互机械连接,使得所述长形元件合作界定了具有上游侧和下游侧的歧管板,所述歧管板具有位于相邻长形元件之间的、从上游侧延伸至下游侧的底部进气开口;一结构,该结构界定了位于所述歧管板的上游处的一个或多个气体间隙,并与所述底部进气开口相通,所述一个或多个气体间隙由所述歧管板和所述进气口元件的顶板形成;与气体分布通道相通的多个额外进气口,这些额外进气口开向所述歧管板的下游侧;以及沿着至少其中一些长形元件延伸、并从这些长形元件处向下游突出的长形的扩散器,至少其中一些额外进气口从所述气体分布通道延伸穿过所述扩散器,到达远离所述气体分布通道的所述扩散器的下游边缘。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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