[发明专利]阵列基板母板及其制作方法、掩膜板在审
| 申请号： | 201510491131.9 | 申请日： | 2015-08-11 |
| 公开（公告）号： | CN105093812A | 公开（公告）日： | 2015-11-25 |
| 发明（设计）人： | 王守坤;郭会斌;冯玉春;李梁梁;张治超;刘正;王静;郭总杰 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/38 | 分类号： | G03F1/38;G02F1/13 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 李相雨 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种阵列基板母板及其制作方法、掩膜板，该掩膜板，其上设置有至少一个第一曝光区，每一个所述第一曝光区对应于阵列基板母板上的一个阵列基板，所述掩膜板上还设置有第二曝光区，所述第二曝光区用于在所述阵列基板母板上形成所述阵列基板的标识码。本发明提供的掩膜板，通过在其上增设用于制作标识码的第二曝光区，使得在阵列基板母板上制作标识码的工艺可以与阵列基板的制作工艺同时进行，从而能够大大减少阵列基板母板的制作时间，提高生产效率。 | ||
| 搜索关键词： | 阵列 母板 及其 制作方法 掩膜板 | ||
【主权项】：
一种掩膜板，其上设置有至少一个第一曝光区，每一个所述第一曝光区对应于阵列基板母板上的一个阵列基板，其特征在于，所述掩膜板上还设置有第二曝光区，所述第二曝光区用于在所述阵列基板母板上形成所述阵列基板的标识码。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
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