[发明专利]一种位移传感器及其使用、制作方法和一种干涉仪在审

专利信息
申请号: 201510447068.9 申请日: 2015-07-27
公开(公告)号: CN106403821A 公开(公告)日: 2017-02-15
发明(设计)人: 孙天玉;张宝顺 申请(专利权)人: 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
主分类号: G01B11/02 分类号: G01B11/02;G01B9/02
代理公司: 北京律和信知识产权代理事务所(普通合伙)11446 代理人: 武玉琴,刘国伟
地址: 215125 江苏省苏州市*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种位移传感器及其使用、制作方法和一种干涉仪,其中,所述位移传感器包括半导体激光器,用于产生激光光束;衍射光栅,用于将所述激光光束中的一部分光直接衍射再反射,产生第一衍射光;同时用于将所述激光光束中穿过自身、到达待测物体,并经待测物体反射后再次穿过自身的一部分光衍射,形成第二衍射光;探测器,位于待测第一衍射光和第二衍射光中预设相同级次的衍射光交汇处,用于测量第一衍射光与第二衍射光中预设相同级次的衍射光之间的干涉强度信息的变化;信息处理器,与所述探测器相连,用于读取干涉强度信号,根据探测器探测的干涉强度变化信息,反演出待测物体的位移信息;所述衍射光栅位于半导体激光器与待测物体之间。
搜索关键词: 一种 位移 传感器 及其 使用 制作方法 干涉仪
【主权项】:
一种位移传感器,其特征在于,所述位移传感器包括:半导体激光器,用于产生激光光束;衍射光栅,用于将所述激光光束中的一部分光直接衍射再反射,产生第一衍射光;同时用于将所述激光光束中穿过自身、到达待测物体,并经待测物体反射后再次穿过自身的一部分光衍射,形成第二衍射光;探测器,位于待测第一衍射光和第二衍射光中预设相同级次的衍射光交汇处,用于测量第一衍射光与第二衍射光中预设相同级次的衍射光之间的干涉强度变化信息;信息处理器,与所述探测器相连,用于读取干涉强度信号,根据探测器探测的干涉强度信息的变化,反演出待测物体的位移信息;所述衍射光栅位于半导体激光器与待测物体之间。
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