[发明专利]激光脉冲溅射沉积制备Ni-Mn-Co-In合金薄膜的方法有效
| 申请号： | 201510446289.4 | 申请日： | 2015-07-27 |
| 公开（公告）号： | CN105296925B | 公开（公告）日： | 2018-07-06 |
| 发明（设计）人： | 董桂馥 | 申请（专利权）人： | 大连大学 |
| 主分类号： | C23C14/18 | 分类号： | C23C14/18;C23C14/34 |
| 代理公司： | 大连智高专利事务所(特殊普通合伙) 21235 | 代理人： | 胡景波 |
| 地址： | 116622 辽宁省*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种激光脉冲溅射沉积制备Ni‑Mn‑Co‑In合金薄膜的方法。该合金薄膜的结构通式为Ni50Mn34In16‑XCoX，通式中x＝0、2、4、6，该薄膜按如下方法制备：按配比取Ni、Mn、Co、In金属单质作为靶材原料，将靶材原料放置于非自耗真空电弧炉熔内熔炼，电弧炉内抽真空至5×10‑3Pa后，充入保护气，得到圆形靶材；将预处理后的基板和靶材放入真空系统中，抽真空至1.0×10‑4Pa，基板温度为500～700℃，基板与靶材间距离为3～5cm；再用激光器发射激光，控制频率为3～4Hz，溅射1～3小时，制得要求厚度的薄膜；最后将薄膜在800～900℃下退火0.5～3h，制备出Ni50Mn34In16‑XCoX合金薄膜。本发明制备的合金薄膜的成分更精确，粗糙度更低，各向异性强，该合金薄膜韧性好，强度大，制备工艺简单，成本低，易于工业化生产。 | ||
| 搜索关键词： | 合金薄膜 制备 基板 薄膜 靶材原料 激光脉冲 溅射沉积 抽真空 靶材 非自耗真空电弧炉 激光器发射激光 预处理 退火 结构通式 金属单质 控制频率 圆形靶材 真空系统 制备工艺 熔炼 保护气 粗糙度 电弧炉 放入 溅射 配比 | ||
【主权项】：
1.一种激光脉冲溅射沉积制备Ni‑Mn‑Co‑In磁性形状记忆合金薄膜的方法，其特征在于，所述Ni‑Mn‑Co‑In合金薄膜的结构通式为Ni50Mn34In16‑XCoX，通式中x＝0、2、4、6；Ni‑Mn‑Co‑In合金薄膜按如下方法制备：按配比取纯度为99.99at.％Ni、99.95at.％Mn、99.95at.％Co、99.99at.％In金属单质作为靶材原料，将靶材原料放置于非自耗真空电弧炉熔内熔炼，电弧炉内抽真空至5×10‑3Pa后，充入氩气，得到圆形靶材；将预处理后的石英玻璃基板和靶材放入真空系统中，抽真空至1.0×10‑4Pa，基板温度为500～700℃，基板与靶材间距离为3～5cm；再用激光器发射激光，控制频率为3～4Hz，溅射1～3小时，制得要求厚度的薄膜；最后将薄膜在800～900℃下退火0.5～3h，制备出Ni50Mn34In16‑XCoX合金薄膜。
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