[发明专利]低剖面光学警告系统有效
| 申请号: | 201510445769.9 | 申请日: | 2015-07-27 |
| 公开(公告)号: | CN106247212B | 公开(公告)日: | 2020-09-18 |
| 发明(设计)人: | S·麦肯德里;C·乔治 | 申请(专利权)人: | ECCO安全集团澳大利亚公司 |
| 主分类号: | F21S8/00 | 分类号: | F21S8/00;F21V5/04;F21V5/08;F21V23/00;F21W111/02;F21Y115/10 |
| 代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 | 代理人: | 赵蓉民;赵志刚 |
| 地址: | 澳大利亚*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | 本发明涉及低剖面光学警告系统。一种光学警告系统包括光电传感头,光电传感头包括从发光区域发出光线的光源。光线通过光学漫射器传播以提供视觉警告信号给位于远离光学警告系统的位置的观察者。设置在光学漫射器与发光区域之间的菲涅尔光学元件阵列与发光区域间隔开并且与发光区域在空间上对准,以接收从发光区域发出的光线并形成准直光束。菲涅尔光学元件阵列经制造使得通过在形成准直光束时降低散射的光损失,表现增加的光学传输效率。 | ||
| 搜索关键词: | 剖面 光学 警告 系统 | ||
【主权项】:
一种包括光电传感头的光学警告系统,所述光电传感头包括从发光区域发出光线的光源,所述光线通过光学漫射器传播以提供视觉警告信号给位于远离所述光学警告系统的位置的观察者,所述改进包括:菲涅尔光学元件阵列,其设置在所述光学漫射器和所述发光区域之间,所述菲涅尔光学元件阵列与所述发光区域间隔开并与所述发光区域在空间上对准,以接收从所述发光区域发出的所述光线并形成准直光束,并且所述菲涅尔光学元件阵列具有第一和第二相对的主表面,其中所述第一主表面具有更靠近所述光学漫射器设置的多个同心环形刻面,而所述第二主表面为平坦的并且更靠近所述发光区域设置;所述多个同心环形刻面形成分开的内部组和外部组,所述内部组中的所述同心环形刻面具有的刻面间距大于所述外部组中的所述同心环形刻面的刻面间距;以及所述外部组中的所述多个环形刻面中的每个占据环状区域,在所述环状区域中,拔模刻面和邻近的光学刻面接合以形成圆形峰部,所述拔模刻面以拔模角度倾斜并且所述圆形峰部由峰部半径限定,所述拔模角度和峰部半径被设定的值经调整以使从所述发光区域发出的入射光线通过所述光学刻面传播而不通过所述拔模刻面和所述圆形峰部传播,从而通过降低在形成所述准直光束时所述圆形峰部散射造成的光损失,增加所述菲涅尔光学元件阵列的光学传输效率。
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