[发明专利]表面保护膜在审
| 申请号: | 201510431306.7 | 申请日: | 2015-07-21 |
| 公开(公告)号: | CN105315909A | 公开(公告)日: | 2016-02-10 |
| 发明(设计)人: | 佐佐木翔悟;设乐浩司 | 申请(专利权)人: | 日东电工株式会社 |
| 主分类号: | C09J7/02 | 分类号: | C09J7/02;C09J175/06;C09J175/08;C09J11/06;B32B33/00;B32B27/36 |
| 代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 龙淳;程采 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 本发明提供一种能够有效地抑制在低温下保存后恢复到室温附近时,在保护粘接剂层的表面的剥离衬里与粘接剂层之间产生气泡的表面保护膜。还提供一种粘贴有这样的表面保护膜的光学部件和电子部件。本发明的表面保护膜是包含粘接剂层的表面保护膜,该粘接剂层含有含聚氨酯系树脂的聚氨酯系粘接剂作为主要成分,该聚氨酯系粘接剂含有增塑剂,将该粘接剂层的厚度设为Xμm、将1g该聚氨酯系粘接剂中的增塑剂的量设为Ymg时,满足Y<-4X+145。 | ||
| 搜索关键词: | 表面 保护膜 | ||
【主权项】:
一种表面保护膜,其包含粘接剂层,所述表面保护膜的特征在于:该粘接剂层含有含聚氨酯系树脂的聚氨酯系粘接剂作为主要成分,该聚氨酯系粘接剂含有增塑剂,将该粘接剂层的厚度设为Xμm、将1g该聚氨酯系粘接剂中的增塑剂的量设为Ymg时,满足Y<-4X+145。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日东电工株式会社,未经日东电工株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201510431306.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。





