[发明专利]基于近性干扰源和环境变化的测量偏差弥合方法

摘要

本发明公开了一种基于近性干扰源和环境变化的测量偏差弥合方法，包括以下步骤：获取多个干扰源；对多个干扰源进行试验，以确定影响测量精度的干扰源；通过环境试验箱和预设信号源测试影响测量精度的干扰源，以获取干扰因子及变化趋势曲线图；根据干扰因子及变化趋势曲线图对近性干扰源进行信号消除，并且对环境干扰源进行数据拟合，以获取标准信号；根据标准信号得到监测数据。本发明实施例的测量偏差弥合方法可以寻找探测环境中可能存在的干扰源和环境变化因素及变化范围，提高测量精度，更好地保证数据的可靠性，避免系统测量误差。

主权项

1.一种基于近性干扰源和环境变化的测量偏差弥合方法，其特征在于，包括以下步骤：获取多个干扰源；对所述多个干扰源进行试验，以确定影响测量精度的干扰源，其中，所述影响测量精度的干扰源至少包括环境干扰源和近性干扰源；通过环境试验箱和预设信号源测试所述影响测量精度的干扰源，以获取干扰因子及变化趋势曲线图；根据所述干扰因子及变化趋势曲线图对近性干扰源进行信号消除，并且对所述环境干扰源进行数据拟合，以获取标准信号，其中，如果对所述近性干扰源进行信号消除，则通过条件试验箱进行辅助监测，以得到监测信号，以通过所述监测信号对所述近性干扰源进行信号消除；如果对所述环境干扰源进行数据拟合，则通过所述环境试验箱对环境参数进行监测，以得到环境信号源响应曲线，并将所述环境信号源响应曲线拟合至所述预设信号源中，以获取所述标准信号；以及根据所述标准信号和信号‑数值计算公式获取监测数据，其中，所述信号‑数值计算公式为：其中，A1、A2、…、An为所述环境信号源响应曲线，G1、G2、…、Gn为所述干扰因子，i为干扰物质种类，n为探测元件的数量。