[发明专利]一种两步法制备二硫化钼薄膜的工艺有效
申请号: | 201510420779.7 | 申请日: | 2015-07-15 |
公开(公告)号: | CN105063573B | 公开(公告)日: | 2017-09-29 |
发明(设计)人: | 兰飞飞;徐永宽;程红娟;张嵩;陈建丽;王再恩;齐成军 | 申请(专利权)人: | 中国电子科技集团公司第四十六研究所 |
主分类号: | C23C16/30 | 分类号: | C23C16/30;C30B25/00;C30B29/46 |
代理公司: | 天津中环专利商标代理有限公司12105 | 代理人: | 王凤英 |
地址: | 300220*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 本发明公开了一种两步法制备二硫化钼薄膜的工艺。其步骤A、对衬底表面进行清洗;B、称取三氧化钼粉末放置在石英舟内,置于管式炉内;将衬底置于装有三氧化钼的石英舟下游;C、称取硫粉于料瓶中,将伴热带缠绕在料瓶外围且置于管式炉体外,料瓶中的进、出气管接入管式炉的进气管路中;D、抽真空,通入Ar将管式炉加热,进行第一步沉积;E.第一步沉积结束后,进行第二步沉积;F、将料瓶加热,然后通入Ar进行三氧化钼的硫化;G.将料瓶与管式炉自然降至室温,取出样品进行测试。采用本工艺,避免了传统化学气相沉积过程中硫的蒸发时间的不可控所导致的三氧化钼的提前硫化,采用两步法制备二硫化钼薄膜,能够使整个反应过程更加可控。 | ||
搜索关键词: | 一种 步法 制备 二硫化钼 薄膜 工艺 | ||
【主权项】:
一种两步法制备二硫化钼薄膜的工艺,其特征在于,该工艺包括以下步骤:(A).对蓝宝石衬底表面进行清洗;(B).称取一定量的三氧化钼粉末,放置在石英舟内,然后置于管式炉加热中心区;将蓝宝石衬底置于装有三氧化钼的石英舟的下游;(C).称取一定量的高纯硫粉置于不锈钢料瓶中,将伴热带缠绕在不锈钢料瓶外围,作为生长的硫源,且置于管式炉体外,不锈钢料瓶中的进气管和出气管接入管式炉的进气管路中;(D).将管式炉抽真空,通入Ar作为载气,控制压力为950‑1050mbar,将管式炉加热800℃‑1000℃,开始进行第一步三氧化钼沉积,沉积时间为15‑40min;(E).第一步三氧化钼沉积后,将装有硫粉的不锈钢料瓶以恒定速率加热190‑210℃,然后通入Ar进行三氧化钼的硫化,硫化时间为55‑65min;(F).硫化结束后,将装有硫粉的不锈钢料瓶与管式炉自然降至室温,取出样品进行测试。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的