[发明专利]用于制备表面为特定晶面的单晶空间取向调控方法和装置

摘要

本发明涉及一种确定和调控单晶体空间取向的装置以及利用该装置制备表面具有特定晶面取向的单晶材料的方法。装置包括单晶体及其连接体，基座，激光器，半透镜，平面反射镜，反射接收屏。本发明利用激光照射从多方位观察单晶材料表面的反射信号确定单晶的实际空间取向，通过调控以及单晶体的可塑性连接体调变单晶体的空间取向，实现对单晶体的特定晶面相对于某个基本晶面取向的精确确定。最后通过定向碾磨抛光得到具有目标单晶面的单晶材料。本发明方法成本低、操作简单、精度高、适合具有各种晶体结构以及形状的单晶材料、可用于这些材料的各种基本晶面和阶梯晶面的制备。可广泛用于基础研究、航空航天、化工和电子等行业的单晶材料制备。

主权项

一种调节单晶体的空间取向的方法，所述调节单晶体的空间取向的方法包括以下步骤：(1)准备具有其中存在至少两个已知晶面的表面区域的单晶体；(2)经由可变形的连接体将所述单晶体固定在可在三维转动的基座上；(3)使激光入射到所述表面区域，在接收屏上记录由所述已知晶面的反射所产生的反射点的位置；(4)由所述已知晶面的位置计算所述单晶体转动到目标空间取向所需的空间转动量，并将所述基座转动，使得所述基座从转动后的位置向转动前的位置转动的空间转动量等于所述所需的空间转动量；(5)通过使所述连接体变形来调节所述单晶体的位置，使得激光再次入射到所述表面区域，并且使得所述已知晶面产生的相应的反射点处于在步骤(3)中记录的位置；(6)将所述基座转动回到起始位置。