[发明专利]具有双热源的烹调系统

摘要

本发明提供了一种具有双热源的烹调系统，其包括：锅体支架；用于容纳烹调物料的桶状锅体，可旋转地设置在锅体支架上；用于驱动锅体绕其旋转轴线旋转的旋转驱动装置；用于调节锅体旋转轴线倾斜角度的角度调节装置；用于对锅体进行加热的间接加热装置；用于对烹调物料进行直接加热的气态加热装置。其中，锅体支架上可开合地设置有用于密闭锅体的锅口的密闭装置，其阻挡气流从锅体内部外泄，使得锅体内的压力大于外部环境的压力。其中，该烹调系统还包括控制器，其根据转速控制指令控制锅体旋转。本发明的烹调系统可实现对烹调物料的快速、均匀加热。

主权项

一种具有双热源的烹调系统，包括：锅体支架；桶状锅体，可旋转地设置在所述锅体支架上，用于容纳烹调物料；旋转驱动装置，与所述锅体连接，用于驱动所述锅体绕其旋转轴线旋转；角度调节装置，与所述锅体支架连接，用于调节所述锅体旋转轴线的倾斜角度；间接加热装置，用于从所述锅体外部对所述锅体进行加热；气态加热装置，用于向所述锅体内喷射气态加热介质，以对所述烹调物料进行直接加热；其中，所述锅体支架上可开合地设置有用于密闭所述锅体的锅口的密闭装置，其阻挡气流从所述锅体内部外泄，使得一段时间内进入锅体内部的气流量大于溢出锅体内部的气流量，从而所述锅体内的压力大于外部环境的压力；其中，所述烹调系统进一步包括控制器，其根据转速控制指令控制所述锅体旋转。