[发明专利]照光制备八氟[2，2]二聚对二甲苯的方法在审
| 申请号： | 201510332195.4 | 申请日： | 2012-08-09 |
| 公开（公告）号： | CN104876794A | 公开（公告）日： | 2015-09-02 |
| 发明（设计）人： | 林俊旭;孙谦益;鄞永裕;李俊士;周佑军 | 申请（专利权）人： | 元欣科技材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C07C25/22 | 分类号： | C07C25/22;C07C17/269 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 曹玲柱 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： |
本发明的主要目的在于提供一种八氟[2，2]二聚对二甲苯(Parylene，AF4)的制备方法，提供反应物及还原剂，使用照光催化进行反应，缩短反应时间，进而减少副产物生成，并可在高浓度反应混合物下制备高纯度(＞99.0％)的AF4。 |
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| 搜索关键词： | 制备 二甲苯 方法 | ||
【主权项】：
一种八氟[2，2]二聚对二甲苯的合成方法，其步骤包括：A，提供一反应物以及一还原剂，其中该反应物为至少一化合物选取自：1，4‑双(氯二氟甲基)苯、1，4‑双(溴二氟甲基)苯以及1，4双(碘二氟甲基)苯所组成的群组，该还原剂为至少一选取自：锌、镍、铅、铝、铜、镁以及锡所组成的群组；B，将该反应物及该还原剂置于一非质子极性溶剂中，形成一混合物；以及C，提供一UV光源并加热该混合物以得到八氟[2，2]二聚对二甲苯。
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