[发明专利]光催化降解‑吸附材料的制备方法与应用有效

专利信息
申请号: 201510322264.3 申请日: 2015-06-12
公开(公告)号: CN104941594B 公开(公告)日: 2017-09-22
发明(设计)人: 路建美;陈冬赟 申请(专利权)人: 苏州大学张家港工业技术研究院
主分类号: B01J20/24 分类号: B01J20/24;B01J20/28;B01J20/30;C02F1/28;C02F1/30;C02F1/32;C02F1/64;B01J31/26
代理公司: 苏州创元专利商标事务所有限公司32103 代理人: 陶海锋
地址: 215600 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种光催化降解‑吸附材料的制备方法及其应用,在负载了可见光催化剂的纳米二氧化硅泡沫上修饰氨基,然后与丁二酸酐反应以连接羧基,再利用羧基与可选择性结合Cr(III)且含有酚羟基的螺吡喃衍生物(SPNH)在二环己基碳二亚胺(DCC)催化脱水下进行反应,得到去除铬离子性能优异的光催化降解‑吸附材料。由此得到的材料在可见光/紫外光照射下完全去除水中六价铬,有利于水处理技术的发展。
搜索关键词: 光催化 降解 吸附 材料 制备 方法 应用
【主权项】:
一种光催化降解‑吸附材料的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)将纳米二氧化硅泡沫分散于去离子水中,然后加入柠檬酸、五水四氯化锡和硫代乙酰胺;然后于130~170℃下水热反应6~24小时,反应结束后收集反应混合物中的固体,得到负载SnS2的二氧化硅材料;所述纳米二氧化硅泡沫的平均孔径为100nm;(2)负载SnS2的二氧化硅材料经3‑氨基丙基三乙氧基硅烷处理后分散在N,N‑二甲基甲酰胺中,然后加入丁二酸酐进行反应,反应结束后收集固体;然后将收集的固体分散于N,N‑二甲基甲酰胺中,再加入二环己基碳二亚胺和螺吡喃衍生物,于惰性气氛下反应12~48小时,过滤反应液得到固体,即为光催化降解‑吸附材料;所述螺吡喃衍生物与二环己基碳二亚胺的摩尔比为1∶(0.5~1.5)。
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