[发明专利]增强二维半导体晶体材料光吸收效率的探测器及制作方法在审

专利信息
申请号: 201510320472.X 申请日: 2015-06-11
公开(公告)号: CN105047728A 公开(公告)日: 2015-11-11
发明(设计)人: 汤乃云 申请(专利权)人: 上海电力学院
主分类号: H01L31/0216 分类号: H01L31/0216;H01L31/0392;H01L31/113;H01L31/18
代理公司: 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 代理人: 陈亮
地址: 200090 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及增强二维半导体晶体材料光吸收效率的探测器及制作方法,探测器包括柔性衬底层(1),柔性衬底层(1)上自下而上依次生长金属电极层(2)、介质层(3)、二维半导体晶体材料层(4)及金属纳米颗粒层(5),所述的二维半导体晶体材料层(4)的两端分别设置第一金属电极(6)和第二金属电极(7);金属电极层(2)为栅极,所述的第一金属电极(6)为源极,所述的第二金属电极(7)为漏极。本发明解决了二维半导体晶体材料对光吸收效率低下的问题,同时保持了二维半导体晶体材料的电学可调特性,具有超高的光吸收率和量子效率。同时本发明采用柔性衬底,本发明形状可弯曲伸展,可应用于柔性光电器件,具有广泛应用前景。
搜索关键词: 增强 二维 半导体 晶体 材料 光吸收 效率 探测器 制作方法
【主权项】:
增强二维半导体晶体材料光吸收效率的探测器,其特征在于,该探测器包括柔性衬底层(1),所述的柔性衬底层(1)上自下而上依次生长金属电极层(2)、介质层(3)、二维半导体晶体材料层(4)及金属纳米颗粒层(5),所述的二维半导体晶体材料层(4)的两端分别设置第一金属电极(6)和第二金属电极(7);所述的金属电极层(2)为栅极,所述的第一金属电极(6)为源极,所述的第二金属电极(7)为漏极。
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