[发明专利]一种钇掺杂锡酸铋纳米晶的制备方法及其用途

摘要

本发明提供了一种钇掺杂锡酸铋纳米晶的制备方法及其用途，该半导体材料可用于可见光降解有机污染物，尤其可用于可见光降解四环素。本发明首先用硝酸铋和硝酸钇混合于稀硝酸中搅拌均匀后，加入锡酸钠溶液，超声至乳白色混合液，再用NaOH溶液调节pH，最后水热法一步制得钇掺杂锡酸铋纳米晶。该材料具有性质稳定，无毒等优点，且原料价廉易得，成本低，符合环境友好要求，反应时间较短，从而减少了能耗和反应成本，便于批量生产；钇掺杂锡酸铋纳米晶光催化剂具有较强的光催化降解能力，用于对四环素的光催化降解时，可达到80.0%的降解效果，因此具有很高的实际应用价值。

主权项

一种钇掺杂锡酸铋纳米晶的方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤1、将硝酸铋和硝酸钇溶于稀硝酸中，制成混合溶液A；步骤2、将锡酸钠溶于蒸馏水中，得到锡酸钠的水溶液；将所述锡酸钠的水溶液转入步骤1中的混合溶液A中，得到混合溶液B；步骤3、将步骤2中的混合溶液B超声至乳白色混合液，用碱性溶液调节乳白色混合液的pH至10~14；步骤4、将步骤3中的乳白色混合液转移至聚四氟乙烯内衬的反应釜中进行恒温热反应，得到固体产物；步骤5、将步骤4中得到的固体产物离心、洗涤、干燥，得到钇掺杂锡酸铋纳米晶。