[发明专利]一种忆阻器和传感器有效

专利信息
申请号: 201510306360.9 申请日: 2015-06-05
公开(公告)号: CN106289329B 公开(公告)日: 2019-03-01
发明(设计)人: 夏奕东;陈岩;黄文龙;罗彩珠 申请(专利权)人: 华为技术有限公司;南京大学
主分类号: G01D5/12 分类号: G01D5/12;H01L45/00
代理公司: 广州三环专利商标代理有限公司 44202 代理人: 郝传鑫;熊永强
地址: 518129 广东*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供了一种忆阻器,所述忆阻器包括衬底、反应电极、非反应电极和位于反应电极、非反应电极之间的转换层,反应电极、转换层和非反应电极共同构成三明治结构,三明治结构设置在衬底的表面,其中,所述转换层的材质为M‑Ge‑N,所述反应电极的材质为M,M为银或铜,N为硒或碲,所述反应电极用于在电场诱导作用下氧化成M离子,所述M离子进入所述转换层并在所述反应电极与所述转换层的接触界面处或所述转换层M‑Ge‑N的缺陷处参与形成MN纳米线,所述MN纳米线在电场的幅值和电场作用时间的控制下获得不同的尺寸和形状。该忆阻器对不同频率的光均有强烈的吸收,产生不同响应波长的LSPR现象,从而实现对不同种类物质的传感。本发明还提供了包含该忆阻器的传感器。
搜索关键词: 一种 忆阻器 传感器
【主权项】:
1.一种忆阻器,其特征在于,所述忆阻器包括衬底、反应电极、非反应电极和位于反应电极、非反应电极之间的转换层,所述反应电极、转换层和非反应电极共同构成三明治结构,所述三明治结构设置在所述衬底的表面,其中,所述转换层的材质为M‑Ge‑N,所述反应电极的材质为M,M为银或铜,N为硒或碲,所述反应电极用于在电场诱导作用下氧化成M离子,所述M离子进入所述转换层并在所述反应电极与所述转换层的接触界面处或在所述转换层M‑Ge‑N的缺陷处参与形成MN纳米线,所述MN纳米线在电场的幅值和电场作用时间的控制下获得不同的尺寸和形状。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华为技术有限公司;南京大学,未经华为技术有限公司;南京大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201510306360.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top