[发明专利]一种杂散光测量装置和测量方法

摘要

本发明公开了一种杂散光测量装置和测量方法，测量装置包括激光器、探测器，激光器有测试波段和定位波段两个波段光，两波段光共口径同方向出射，激光器测量波段和探测器响应波段位于待测光学系统的关注波段范围内，探测器覆盖激光器的测量波段。测量时，首先对光学系统入口进行分区，调整激光器出射光束相对光学系统光轴方向的夹角，并利用置于光学系统像平面的探测器，探测开启状态下的激光器出射光束到达像平面的光能量，完成该孔径位置、该离轴角条件下，杂散光的影响程度的测量，通过孔径积分获得该离轴角条件下杂散光影响程度。本发明的优点在于原理简单，通用各种尺寸口径的光学系统，且可以直观定位杂散光一次散射位置路径。

主权项

一种杂散光测量方法，其特征在于包括以下步骤：1)对待测光学系统入口进行分区，针对每个分区设置测量子孔径，并对测量子孔径进行编号；2)将激光器放置在待测光学系统前端的某测量子孔径位置处，并调整激光器出射光束相对待测光学系统光轴方向的夹角到预定角度，所述激光器包括测试波段和定位波段两个波段，两波段为共口径同方向出射；3)将探测器放置在待测光学系统的像平面上；4)依次开启激光器和探测器，探测器探测开启状态下的激光器出射光束到达像平面的光能量；5)开启激光器定位波段，肉眼查看激光器出射定位波段光束在待测光学系统中的照射位置，对一次散射、二次散射位置进行定位；6)重复调整激光器的位置，探测器再次进行能量探测，直至激光器位置覆盖待测光学系统入口的全部分区和关注的各个角度范围。