[发明专利]射频加热装置

摘要

一种射频(RF)加热装置和包括RF加热装置的微波炉。所述装置包括用于容纳要加热的物体的腔体。所述装置还包括用于产生被引入腔体的RF辐射的多个通道。每个通道包括频率合成器、功率放大器和天线。每个通道可操作用于使用公共相位参考信号产生RF辐射。每个通道可以可控地操作用于产生具有不同的相应频谱的RF辐射。可以提供正向和反向信号检测电路，正向和反向信号检测电路可操作来确定与所述腔体内的RF辐射有关的幅值、频率和/或相位信息。可以将这种信息用于自适应地控制由每个通道产生的RF辐射。

主权项

一种射频RF加热装置，包括：腔体，用于容纳要加热的物体；振荡器，用于产生公共相位参考信号；多个通道，用于产生要引入所述腔体的RF辐射，其中每个通道包括：RF频率合成器；相干正交调制器，用于调制所述RF频率合成器所输出的RF信号；控制器，用于将控制信号输出至所述相干正交调制器以用于控制经调制RF信号的相位和/或幅值；功率放大器，用于放大经调制RF信号；天线，连接至所述功率放大器的输出；第一相干正交解调器；第二相干正交解调器；定向耦合器，连接在所述功率放大器与所述天线之间，该定向耦合器通过正向信号耦合路径和反向信号耦合路径被分别连接至所述第一相干正交解调器和所述第二相干正交解调器，其中，所述第一相干正交解调器被配置成监控通过所述RF频率合成器输出的RF信号引入到所述腔体的RF信号，并且其中，所述第二相干正交解调器被配置成监控通过所述RF频率合成器输出的RF信号从所述腔体反射回来的RF信号；其中，所述第一相干正交解调器和所述第二相干正交解调器被配置成将各自的输出提供至所述控制器；其中，所述控制器被配置成使用来自所述第一相干正交解调器和所述第二相干正交解调器的所述输出以改变所述通道的操作，从而修改引入到所述腔体的RF辐射；并且其中，所述公共相位参考信号被用来在频率和/或相位方面同步每个通道的RF频率合成器。