[发明专利]原位测量薄膜厚度变化的设备和方法

摘要

本发明公开了一种原位测量薄膜厚度变化的设备和方法，其中设备包括样品台、激光源和激光探测器，所述样品台承载待测样品，所述激光源发出第一束激光、第二束激光分别照射在待测样品的薄膜表面和基底表面，所述激光探测器接收被待测样品反射的第一束激光和第二束激光、计算所述薄膜表面和基底表面垂直方向的位置差值的变化，从而得到薄膜的厚度变化。

主权项

一种在化学溶液沉积的热处理过程中原位测量薄膜厚度变化的设备，其特征在于：包括样品台、激光源和激光探测器，所述样品台承载待测样品，所述样品包括基底和化学溶液沉积形成在所述基底上的薄膜，所述激光源发出第一束激光、第二束激光分别照射在待测样品的薄膜表面和裸露的基底表面，所述激光探测器接收被待测样品反射的第一束激光和第二束激光、计算所述薄膜表面和基底表面垂直方向的位置差值的变化，从而得到薄膜的厚度变化；所述激光探测器使用三角法，所述激光探测器分别探测反射的第一束激光和第二束激光在激光探测器上的光斑位置的位移，从而计算两束激光发生反射的位置变化情况，进而获得薄膜表面和裸露的基底表面在垂直方向的位置差值变化；或者所述激光探测器使用干涉法，所述激光探测器探测所述第一束激光、第二束激光之间的干涉信息，计算所述第一束激光、第二束激光的光程差变化情况，进而利用激光的入射角度计算所述薄膜表面和基底表面垂直方向的位置差值变化。