[发明专利]制作不连续直线图案的方法与不连续直线图案结构

摘要

本发明公开一种制作不连续直线图案的方法与不连续直线图案结构。该方法包含在基底上形成DSA材料层，在相分离制作工艺后形成周期性排列图案，其包括交替排列的多个第一聚合物结构与第二聚合物结构。然后在DSA材料层上形成第一掩模覆盖周期性排列图案的第一部分，然后移除被第一掩模曝露的第一聚合物结构，再移除第一掩模。接着形成第二掩模覆盖周期性排列图案的第二部分，其中第一与第二部分之间具有间隙。然后移除被第二掩模所暴露的第二聚合物结构，最后移除第二掩模。所留下的部分第一聚合物结构与部分第二聚合物结构彼此不互相连接。

主权项

一种制作不连续直线图案的方法，包含：提供一基底；在该基底上形成一定向自组装(directed self‑assembly，DSA)材料层；进行该定向自组装材料层的一相分离(phase separation)制作工艺，以形成一周期性排列图案(ordered periodic pattern)，该周期性排列图案包括彼此交替排列的多个第一聚合物结构与多个第二聚合物结构；形成一第一掩模，覆盖该周期性排列图案的一第一部分；进行一第一蚀刻制作工艺，以移除被该第一掩模所曝露的部分该多个第一聚合物结构；移除该第一掩模；形成一第二掩模，覆盖该周期性排列图案的一第二部分，其中该周期性排列图案的该第二部分与该第一部分的相邻边界之间具有一间隙(interval)；进行一第二蚀刻制作工艺以移除被该第二掩模所暴露的部分该多个第二聚合物结构；以及移除该第二掩模，其中所留下的部分该多个第一聚合物结构与所留下的部分该多个第二聚合物结构彼此不互相连接。