[发明专利]电压自动修正方法

摘要

本发明涉及半导体生产和加工领域。本发明揭示了一种电压自动修正方法，涉及N个同款的半导体设备，N为不小于2的整数，包括步骤：选取其中一部半导体设备作为基准设备，并控制基准设备与其他半导体设备的工艺条件均相同；对基准设备和其他半导体设备施加一个相同的基准电压函数V1，并测量基准电压函数V1下基准设备和其他半导体设备的电流函数I1，I2，I3，…，IN；根据欧姆定律进行一系列的计算，得到其他半导体设备关于基准设备的电压修正系数β2，β3，…，βN。采用本发明的技术方案，在相同的工艺条件下，能够将同款的多台不同半导体设备的工艺结果调节一致，使半导体设备做出的工艺结果更具说服力。

主权项

一种电压自动修正方法，涉及N个同款的半导体设备，N为不小于2的整数，其特征在于，包括步骤：选取其中一部半导体设备作为基准设备，并控制所述基准设备以及剩余的其他半导体设备的工艺条件均相同；对所述基准设备施加基准电压函数V1，并测量此基准电压函数V1下所述基准设备对应的目标电流函数I1，同时对剩余的其他半导体设备也施加相同的基准电压函数V1并测量获得此基准电压函数V1下剩余的其他半导体设备对应的电流函数I2，I3，…，IN；根据基准电压函数V1以及剩余的其他半导体设备对应的电流函数I2，I3，…，IN计算所述剩余的其他半导体设备的电阻函数R2，R3，…，RN；根据目标电流函数I1以及剩余的其他半导体设备的电阻函数R2，R3，…，RN计算所述剩余的其他半导体设备的修正电压函数V2，V3，…，VN；根据基准电压函数V1以及剩余的其他半导体设备的修正电压函数V2，V3，…，VN计算剩余的其他半导体设备的电压修正系数β2，β3，…，βN；在所述工艺条件不变的情况下，应用所得的剩余的其他半导体设备的电压修正系数β2，β3，…，βN，根据施加至所述基准设备的任意电压函数U1将剩余的其他半导体设备的电压函数修正至对应的再修正电压函数U2，U3，…，UN，以使此状态下所述基准设备以及剩余的其他半导体设备的电流函数均相同。