[发明专利]投影机在审
| 申请号： | 201510214289.1 | 申请日： | 2012-01-13 |
| 公开（公告）号： | CN104765083A | 公开（公告）日： | 2015-07-08 |
| 发明（设计）人： | 大谷信 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/02 | 分类号： | G02B5/02;G03B21/20 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 段承恩;刘瑞东 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供可以切实地抑制斑点噪音的投影机。具备：光源(11)，其射出激光；第1扩散部(12)，其对从光源(11)射出的激光进行扩散而使其作为第1扩散光射出；以及光调制元件(20)，其对从第1扩散部(12)射出的第1扩散光进行调制；其中，光调制元件(20)，具有对从第1扩散部(12)射出的第1扩散光进行扩散而使其作为第2扩散光射出的第2扩散部(16)；第2扩散部(16)与光调制元件(20)一体地设置；从第2扩散部(16)射出的第2扩散光的扩散强度分布为跨该第2扩散光的中心轴连续的分布。 | ||
| 搜索关键词： | 投影机 | ||
【主权项】：
一种投影机，其特征在于，具备：光源，其射出激光；第1扩散部，其对从前述光源射出的前述激光进行扩散而使其作为第1扩散光射出；光调制元件，其根据图像信息对从前述第1扩散部射出的第1扩散光进行调制；和投影光学系统，其对由前述光调制元件调制后的光进行投影；其中，前述光调制元件，具有对从前述第1扩散部射出的第1扩散光进行扩散而使其作为第2扩散光射出的第2扩散部；前述第2扩散部与前述光调制元件一体地设置；从前述第2扩散部射出的第2扩散光的扩散强度分布为跨该第2扩散光的中心轴连续的分布。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于精工爱普生株式会社，未经精工爱普生株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201510214289.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种线性频域光栅及其设计方法
- 下一篇：一种确定沉积地层古地貌的方法及装置
