[发明专利]光学元件表面碳污染的ArH清洗方法有效
| 申请号： | 201510212428.7 | 申请日： | 2015-04-29 |
| 公开（公告）号： | CN104865700B | 公开（公告）日： | 2017-07-14 |
| 发明（设计）人： | 王依;卢启鹏;彭忠琦;龚学鹏 | 申请（专利权）人： | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 主分类号： | G02B27/00 | 分类号： | G02B27/00 |
| 代理公司： | 长春菁华专利商标代理事务所(普通合伙)22210 | 代理人： | 刘慧宇 |
| 地址： | 130033 吉*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | 光学元件表面碳污染的ArH清洗方法，属于光学加工技术领域，该方法包括将光学元件样品放置到清洗腔内，利用真空泵使清洗腔达到真空度要求10‑5mbar以上；启动射频等离子体发射器，射频频率为13.56MHz，通入氩气，其供应流量为2sccm，使整个清洗腔内充满激发态氩粒子，通入氩气时避免直对光学元件样品表面，防止样品表面被氩等离子体轰击而造成光学元件表面损伤；启动氢原子发射器，设定加热温度至2300K，通入氢气，供应流量为1sccm，产生的氢原子与氩粒子结合为激发态配合物ArH；光学元件样品上的碳与ArH发生化学反应，产生挥发性碳氢化合物；真空泵将碳氢化合物以及恢复到基态的氩抽出，完成清洗。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 元件 表面 污染 arh 清洗 方法 | ||
【主权项】：
光学元件表面碳污染的ArH清洗方法，其特征是，包括如下步骤：第一步，将碳曝光污染的光学元件样品(5)放置到清洗腔(4)内，利用真空泵(3)使清洗腔(4)真空度达到10‑5mbar以上；第二步，启动射频等离子体发射器(2)，射频频率为13.56MHz，通入氩气，其供应流量为2sccm，使整个清洗腔(4)内充满激发态氩粒子，通入氩气时避免直对光学元件样品表面，防止样品表面被氩等离子体轰击而造成光学元件表面损伤；第三步，启动氢原子发射器(1)，设定加热温度至2300K，通入氢气，供应流量为1sccm，产生的氢原子与氩粒子结合为激发态配合物ArH；第四步，光学元件样品上的碳与ArH发生化学反应，产生挥发性碳氢化合物；第五步，真空泵(3)将碳氢化合物以及恢复到基态的氩抽出，完成清洗。
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