[发明专利]Nd:YLF激光四倍频装置及调试方法有效

专利信息
申请号: 201510210529.0 申请日: 2015-04-28
公开(公告)号: CN104810718B 公开(公告)日: 2018-11-20
发明(设计)人: 林尊琪;姜秀青;朱宝强;季来林;刘栋;惠宏超;李大为 申请(专利权)人: 中国科学院上海光学精密机械研究所
主分类号: H01S3/109 分类号: H01S3/109
代理公司: 上海新天专利代理有限公司 31213 代理人: 张泽纯;张宁展
地址: 201800 上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种Nd:YLF激光四倍频装置及调试方法,该装置构成包括Nd:YLF基频激光器,沿该Nd:YLF基频激光器的激光输出方向依次是二倍频晶体、第一二倍频激光色分离膜和第二二倍频激光色分离膜、四倍频晶体、第一四倍频激光分离膜和第二四倍频激光分离膜,所述的第一二倍频激光色分离膜、第二二倍频激光色分离膜、第一四倍频激光分离膜和第二四倍频激光分离膜均与光路成45°放置,所述的四倍频晶体的温度由温度控制装置控制。本发明具有装置稳定、调试方法简便快捷、四倍频转换率高等优点。
搜索关键词: nd ylf 激光 倍频 装置 调试 方法
【主权项】:
1.一种Nd:YLF激光四倍频装置,特征在于其构成包括Nd:YLF基频激光器(1),沿该Nd:YLF基频激光器(1)的激光输出方向依次是二倍频晶体(2)、第一二倍频激光色分离膜(3)和第二二倍频激光色分离膜(4)、四倍频晶体(5)、第一四倍频激光分离膜(9)和第二四倍频激光分离膜(10),所述的第一二倍频激光色分离膜(3)、第二二倍频激光色分离膜(4)、第一四倍频激光分离膜(9)和第二四倍频激光分离膜(10)均与光路成45°放置,所述的四倍频晶体(5)的温度由温度控制装置(6)控制,所述的四倍频晶体(5)为部分掺氘KDP晶体,所述的温度控制装置(6)为水循环温度控制装置,使不同掺氘量的KDP晶体达到非临界相位匹配状态。
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