[发明专利]一种电致发光器件及其制备方法、背光源组件、显示装置在审
| 申请号： | 201510209466.7 | 申请日： | 2015-04-28 |
| 公开（公告）号： | CN104882518A | 公开（公告）日： | 2015-09-02 |
| 发明（设计）人： | 王晨如;董学;王光泉;孙海威;陈丽莉;翟明;董瑞君 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | H01L33/00 | 分类号： | H01L33/00;H01L33/40 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明实施例提供了一种电致发光器件及其制备方法、背光源组件、显示装置，涉及显示技术领域，可降低衬底成本，同时减小外延层中的结构缺陷，实现大面积发光源的量产化。该电致发光器件的制备方法包括在衬底层上形成缓冲层的步骤；所述在衬底层上形成缓冲层的步骤包括：在基底层上形成缓冲层；其中，构成所述基底层的材料与构成所述缓冲层的材料晶格常数相匹配；采用图案转印工艺，将包括有所述缓冲层与所述基底层的层叠结构转印至所述衬底层上；其中，所述缓冲层与所述衬底层直接接触；去除所述基底层，露出所述缓冲层。用于电致发光器件及包括该电致发光器件的背光源组件、显示装置的制备。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 电致发光 器件 及其 制备 方法 背光源 组件 显示装置 | ||
【主权项】：
一种电致发光器件的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：在衬底层上形成缓冲层的步骤；所述在衬底层上形成缓冲层的步骤包括：在基底层上形成缓冲层；其中，构成所述基底层的材料与构成所述缓冲层的材料晶格常数相匹配；采用图案转印工艺，将包括有所述缓冲层与所述基底层的层叠结构转印至所述衬底层上；其中，所述缓冲层与所述衬底层直接接触；去除所述基底层，露出所述缓冲层。
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