[发明专利]黑色矩阵的制作方法

摘要

本发明提供一种黑色矩阵的制作方法，通过在基板上涂布包含正性光刻胶的黑色矩阵光阻体系，利用正性光刻胶被UV光照射的区域会在显影过程中被显影液去除，而遮光区域得以保留的特性，对黑色矩阵光阻体系形成的光阻层进行两次不同的曝光、显影过程，从而解决了BOA制程中黑色矩阵光阻体系涂布后对位标记难以识别的问题。

主权项

一种黑色矩阵的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤1、提供基板(1)及黑色矩阵光阻体系，并在基板(1)上涂布所述黑色矩阵光阻体系，形成光阻层(2)；所述黑色矩阵光阻体系至少包含以下两种成分：正性光刻胶及遮光材料；其中，所述基板(1)上设置有数个对位标记(14)，所述光阻层(2)覆盖了该数个对位标记(14)；步骤2、对所述光阻层(2)进行第一次曝光，该次曝光为盲曝，无需对位标记(14)，利用曝光机的机台坐标，对光阻层(2)上对位标记(14)可能存在的较大区域进行曝光，显影和剥离后暴露出原本覆盖在光阻层(2)下面的对位标记(14)；步骤3、利用暴露出的对位标记(14)进行精确对位后，按照黑色矩阵的设计图形对光阻层(2)进行第二次曝光，显影和剥离后，形成黑色矩阵(3)。