[发明专利]一种用于镀膜机中控制膜料沉积角分布的方法在审
| 申请号： | 201510189587.X | 申请日： | 2015-04-21 |
| 公开（公告）号： | CN104726842A | 公开（公告）日： | 2015-06-24 |
| 发明（设计）人： | 郭春;李斌成;孔明东 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电技术研究所 |
| 主分类号： | C23C14/54 | 分类号： | C23C14/54 |
| 代理公司： | 无 | 代理人： | 无 |
| 地址： | 610209 *** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于镀膜机中控制膜料沉积角分布的方法，真空镀膜过程中，膜料以蒸发或溅射方式在真空环境中传输，并在光学元件上沉积形成薄膜。为优化薄膜分布，光学元件在镀膜机内做旋转运动。旋转运动使得光学元件上任意位置处膜料沉积角均具有较宽的分布范围，并且不同位置上膜料沉积角分布存在显著差异。通过在蒸发或溅射源与光学元件间放置开孔挡板，真空镀膜过程中，膜料穿过开孔挡板沉积到光学元件上。优化开孔形状，实现对光学元件上膜料沉积角分布控制，降低膜料沉积角及其分布范围，提高薄膜性能。与传统的真空镀膜相比，本发明能制备出吸收和散射损耗小、环境稳定性好的薄膜，特别适用于真空紫外/深紫外薄膜制备。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 镀膜 控制 沉积 角分布 方法 | ||
【主权项】：
一种用于镀膜机中控制膜料沉积角分布的方法，其特征在于：该方法步骤如下：步骤(1)、真空镀膜过程中，膜料以蒸发或溅射方式在真空环境中传输，并在光学元件上沉积形成薄膜；为优化薄膜分布，光学元件在镀膜机内做旋转运动；旋转运动使得光学元件上任意位置处膜料沉积角均具有较宽的分布范围，并且不同位置上膜料沉积角分布存在显著差异；所述的膜料沉积角是光学元件上膜料沉积点与蒸发或溅射源间的连线矢量与光学元件上膜料沉积点的表面法向量之间的夹角；步骤(2)、通过在蒸发或溅射源与光学元件间放置开孔挡板，真空镀膜过程中，膜料穿过开孔挡板沉积到光学元件上；优化开孔形状，实现对光学元件上膜料沉积角分布控制，降低膜料沉积角及其分布范围，提高薄膜性能。
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