[发明专利]一种表面栅型静电感应晶体管在审
申请号: | 201510182834.3 | 申请日: | 2015-04-16 |
公开(公告)号: | CN104810395A | 公开(公告)日: | 2015-07-29 |
发明(设计)人: | 杨建红;王娇;乔坚栗;闫兆文;谌文杰;杨盼 | 申请(专利权)人: | 兰州大学 |
主分类号: | H01L29/772 | 分类号: | H01L29/772;H01L29/08;H01L21/335 |
代理公司: | 兰州振华专利代理有限责任公司 62102 | 代理人: | 张晋 |
地址: | 730000 *** | 国省代码: | 甘肃;62 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及一种小功率的常关型表面栅型静电感应晶体管(SIT)及制造方法。本发明的晶体管由:漏极、位于漏极之上的N+低阻单晶的衬底、位于N+低阻单晶的衬底之上的N-高阻外延层和位于N-高阻外延层内的相互并联的多个SIT单元并联而构成,其中的有源区采用短沟道设计。本发明的器件可在相应的工艺支持下使器件栅体杂质浓度高且杂质分布更加均匀,降低了栅体自身的压降,增加了栅控灵敏度,提高了器件跨导,同时栅源面积减小,降低栅源寄生电容,增大SIT工作频率。相对于现有技术,本发明的短沟道设计取得了彻底的革命性的改进。 | ||
搜索关键词: | 一种 表面 静电感应 晶体管 | ||
【主权项】:
一种表面栅型静电感应晶体管,由:漏极、位于漏极之上的N+低阻单晶的衬底、位于N+低阻单晶的衬底之上的N‑高阻外延层和位于N‑高阻外延层内的相互并联的多个SIT单元并联而构成,其中每个SIT单元包括:位于栅区上的SiO2层,各SiO2层间的源区,和P+的栅区,至少有一个SIT单元的有源区上开设有引线孔并设置有与栅区电连通的引线,其特征在于有源区采用短沟道设计,沟道长度<5μm,栅区掺杂浓度为5×1019cm‑3~1×1020 cm‑3,源区掺杂浓度为1×1020 cm‑3~5×1020 cm‑3。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于兰州大学,未经兰州大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201510182834.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种半导体器件及其制造方法
- 下一篇:一种卷边器
- 同类专利
- 专利分类