[发明专利]一种低电阻率氧化铌掺铌溅射旋转靶材及其制备方法

摘要

本发明公开了一种低电阻率氧化铌掺铌溅射旋转靶材及其制备方法。所述靶材由97.5‑99.5重量％NbOx和0.4‑2.4重量％Nb，余下为杂质组成；其中0.05＜X＜2.5；优选2＜X＜2.5。制备时，先进行不锈钢背管的制备；然后混粉，烘干，真空等离子喷涂和机械加工得到。采用本发明的配方，并引进新的生产工艺，得到的产品电阻率更低，而且透过率更高，极大的提高了产品性能。透过率主要和下游镀膜厂家设计的膜厚度和膜组成结构有关系，靶材致密度高，可以使得镀膜时在同等厚度下的膜透过率较高。可广泛用于触摸屏、光学玻璃镀膜、TFT等领域，对行业的进步有极大的推动作用。

主权项

1.一种低电阻率溅射旋转氧化铌靶材，其特征在于，所述靶材由99.5重量％NbOx和0.4重量％Nb，余下为杂质组成；其中0.05＜X＜2.5；所述Nb Ox粒径≤150μm，Nb粒径为38‑75μm；所述低电阻率溅射旋转氧化铌靶材的制备方法为：1)不锈钢背管制备：下料：用锯床锯取指定长度的不锈钢管，钢管的内径为125mm，外径为133mm；车管：将不锈钢管两端按产品图纸分别车出凹槽、斜角；表面喷砂粗化：再将不锈钢管通过喷砂机将其表面喷砂处理；打底：取出粗化后的不锈钢管，通过电弧喷涂机，在其表面喷涂一层CuAl材料层，涂层厚度为0.5mm，得到制备好的不锈钢背管；2)氧化铌掺铌涂层制备：混粉：按重量比分取出氧化铌粉、铌粉置于混粉机中机械混合，得到混合粉末；烘干：将所得的混合粉末置于烘干炉中；真空等离子喷涂：在真空状态下，使用等离子体为热源将烘干的混合粉末通过送粉器加热到熔融或半熔融状态并高速冲击到制备好的不锈钢背管表面，形成致密氧化铌掺铌靶材涂层；机械加工：待真空等离子喷涂所得靶材到达所定尺寸后，对成型的旋转靶材进行机械加工，加工完毕后再进行清洗、烘干即可；所述烘干步骤中烘干温度为150‑200度，烘干时间为2‑3小时；所述真空等离子喷涂步骤中，喷涂电压80V、喷涂电流520‑575A、真空度为‑0.1Mpa、氩气流量为2030‑2400L/H；所述不锈钢是304不锈钢；所述表面喷砂粗化步骤中喷砂材料为粒径为80目的棕刚玉；所述混粉步骤的混料时间为5‑6小时。