[发明专利]一种用于提拉炉的激光监控分析系统

摘要

本发明公开了一种用于提拉炉的激光监控分析系统，用于提拉炉内晶体生长过程中的监控和分析，所述系统以激光对提拉炉内生产环境进行主动照明，通过生产环境所反射回的激光对提拉炉内的晶体生长过程进行成像分析，本发明能在提拉炉内强光环境下，实现对晶体生成过程的可靠清晰监控和分析。

主权项

一种用于提拉炉的激光监控分析系统，用于提拉炉内晶体生长过程中的监控和分析，其特征在于：所述系统以激光对提拉炉内生产环境进行主动照明，通过生产环境所反射回的激光对提拉炉内的晶体生长过程进行成像分析；所述系统与提拉炉集成，设有激光生成部、光路组件和激光传感系统，所述提拉炉从外至内依次设有炉膛、保温罩和坩锅，所述激光生成部生成的激光由激光出射口输出，经光路组件发散后，对提拉炉坩锅内的籽晶进行360度范围覆盖照射，同时也对提拉炉坩锅内液面进行照射；激光传感系统内置传感器、分析模块和反馈模块，根据籽晶和液面处的反射激光进行传感成像、分析，同时向外部控制系统反馈所生成的图像和分析结果；所述激光生成部的激光出射口设于炉膛侧壁处，位于同一水平面内，激光生成部生成激光从三个方向互成120度射入提拉炉内；所述激光传感系统所用传感器的位置与激光生成部的激光出射口相邻；所述激光传感系统整合三个方向的传感器的采集信息以进行立体成像；本系统采用可穿透晶体的激光照明以强化对晶体生长过程中晶体缺陷的观察监控能力；激光传感系统的传感器仅使用反射激光进行成像。