[发明专利]一种基于LabVIEW的双光栅同轴检焦装置和检焦方法

摘要

一种基于LabVIEW的双光栅同轴检焦装置和检焦方法，主要由基于LabVIEW的光场强度检测与检焦控制系统、位移平台系统、双光栅系统、被测系统、探测模块和电源等模块组成，装置结构包括光源、准直透镜、第一聚焦透镜、毛玻璃、反射镜、第二聚焦透镜、第一光栅板、第二光栅、CCD和计算机；利用基于LabVIEW的光场强度检测与检焦控制系统软件，对CCD采集的条纹图进行数据处理，计算功率谱，当数据处理分析第二光栅板达到焦点位置时，在计算机上显示、标记并存储相关数据，从而达到自动检焦功能。本发明的检焦方法，检测速度快、精度高；结构简单，便于操作；软件实时显示当前检测的数据的功率谱，并绘制相应的动态曲线，便于数据保存和拓展应用。

主权项

一种基于LabVIEW的双光栅同轴检焦装置，主要由基于LabVIEW的光场强度检测与检焦控制系统、位移平台系统、双光栅系统、被测系统、探测模块和电源等模块组成，其特征在于：从光束入射方向依次包括光源(1)、准直透镜(2)、第一聚焦透镜(3)、毛玻璃(4)、反射镜(5)、第二聚焦透镜(6)、第一光栅板(7)、第二光栅(11)、CCD(13)；所述的第一光栅板(7)置于第一位移平台(8)上，并位于被测光学系统(10)的物面上；所述的第二光栅(11)置于第二位移平台(12)上，并位于被测光学系统(10)的像方平面上；所述的CCD(13)位于第二光栅板(11)的后方，并通过数据接收总线(14)与计算机(16)相连；所述的被测光学系统(10)在检测时，被固定在光学系统固定架(9)上；所述的计算机(16)安装了基于LabVIEW的光场强度检测与检焦控制系统软件，用于测量过程控制，测量数据存储，对CCD采集的干涉条纹进行处理与分析，将干涉条纹图的功率谱绘制成图进行动态显示，并标记被测光学系统的焦点位置。