[发明专利]光吸收薄膜材料，光学器件及制备方法在审
| 申请号： | 201510157602.2 | 申请日： | 2015-04-03 |
| 公开（公告）号： | CN106145022A | 公开（公告）日： | 2016-11-23 |
| 发明（设计）人： | 郑晨焱;张小辛;粟笛 | 申请（专利权）人： | 中航（重庆）微电子有限公司 |
| 主分类号： | B81B1/00 | 分类号： | B81B1/00;B81B7/00;B81B7/02;B81B7/04;B81C1/00;H01L27/146 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 401331 重庆*** | 国省代码： | 重庆;50 |
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| 摘要： | 本发明提供一种新的光吸收薄膜，包含TiNx材料，日常状态下为黑色，其中TiNx材料中Ti与N的原子比大于1。本发明的光吸收薄膜在近红外，可见光和近紫外波段具有高吸收和低透射特点，使应用光吸收薄膜的光学器件精度更高。 | ||
| 搜索关键词： | 光吸收 薄膜 材料 光学 器件 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种光吸收薄膜，包含TiNx材料，日常状态下为黑色，其中TiNx材料中Ti与N的原子比大于1。
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