[发明专利]离子注入装置及离子注入方法有效
| 申请号: | 201510148556.X | 申请日: | 2015-03-31 |
| 公开(公告)号: | CN105023821B | 公开(公告)日: | 2018-02-23 |
| 发明(设计)人: | 椛泽光昭;石川雅基;上野勇介 | 申请(专利权)人: | 斯伊恩股份有限公司 |
| 主分类号: | H01J37/317 | 分类号: | H01J37/317;H01L21/265 |
| 代理公司: | 永新专利商标代理有限公司72002 | 代理人: | 徐殿军 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | 本发明提供一种可减小向被处理物进行注入时的注入角度误差的离子注入装置及离子注入方法。离子注入装置(100)的射束线部具备转向电磁铁(30)、射束扫描器(34)及射束平行化器(36)。射束线部包含离子束的基准轨道,z方向表示沿基准轨道的方向,x方向表示与z方向正交的一个方向。转向电磁铁使离子束向x方向偏转。射束扫描器通过使离子束向x方向往复偏转,来扫描离子束。射束平行化器具备平行化透镜,该平行化透镜构成为使经扫描的离子束与z方向平行,平行化透镜在射束扫描器的扫描原点处具有焦点。控制部对转向电磁铁中x方向的偏转角度进行补正,以使偏转的离子束的实际轨道在xz面上于扫描原点处与基准轨道相交。 | ||
| 搜索关键词: | 离子 注入 装置 方法 | ||
【主权项】:
一种离子注入装置,其特征在于,具备:射束线部,该射束线部具备射束偏转器、配设于所述射束偏转器的下游的射束扫描器及配设于所述射束扫描器的下游的射束平行化器;及控制部,该控制部构成为对所述射束线部的至少所述射束偏转器进行控制,所述射束线部包含离子束的基准轨道,z方向表示沿所述基准轨道的方向,x方向表示与z方向正交的一个方向,所述射束偏转器构成为,可使所述离子束向x方向偏转,所述射束扫描器构成为,通过使所述离子束沿x方向往复偏转来扫描所述离子束,所述射束平行化器具备平行化透镜,该平行化透镜构成为使被扫描的离子束与z方向平行,所述平行化透镜在所述射束扫描器的扫描原点具有焦点,所述控制部对所述射束偏转器中x方向的偏转角度进行补正,以便通过所述射束偏转器偏转的离子束的实际轨道在xz面上于所述扫描原点处与所述基准轨道相交。
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