[发明专利]光掩模的制造方法、光掩模以及显示装置的制造方法

摘要

本发明获得一种能够形成尺寸精度较高的转印用图案的光掩模的制造方法、光掩模以及显示装置的制造方法。该方法是在透明基板上具备对光学膜进行图案化所得到的转印用图案的光掩模的制造方法，具有准备光掩模基板的工序、描绘工序、抗蚀剂图案形成工序、和光学膜图案化工序，在上述描绘工序中使用包括用于形成上述转印用图案的转印用图案数据、和用于形成监测图案的监测图案数据的图案数据来进行描绘，上述光学膜图案化工序包括对上述光学膜实施规定时间的蚀刻的第1蚀刻、以及基于上述监测图案的尺寸测量、和通过上述尺寸测量所得到的上述监测图案的尺寸对上述光学膜实施追加的蚀刻的第2蚀刻。

主权项

一种光掩模的制造方法，是在透明基板上具备对光学膜进行图案化所得的转印用图案的光掩模的制造方法，其特征在于，具有：在所述透明基板上准备具有所述光学膜和抗蚀剂膜的光掩模基板的工序；使用描绘装置，针对所述抗蚀剂膜，基于规定的图案数据进行描绘的描绘工序；通过对所述抗蚀剂膜进行显影来形成抗蚀剂图案的抗蚀剂图案形成工序；以及通过将所述抗蚀剂图案作为掩模，对所述光学膜进行蚀刻从而形成光学膜图案的光学膜图案化工序，在所述描绘工序中，使用包括用于形成想要得到的所述转印用图案的转印用图案数据、以及用于形成尺寸测量用的监测图案的监测图案数据的所述图案数据来进行描绘，所述光学膜图案化工序包括：对所述光学膜实施规定时间的蚀刻的第1蚀刻；所述监测图案的尺寸测量；以及基于通过所述尺寸测量所得到的所述监测图案的尺寸，对所述光学膜实施追加的蚀刻的第2蚀刻，所述监测图案包括将所述转印用图案的至少一部分作为CD保证部时，与所述CD保证部相同的尺寸的CD测量部。