[发明专利]曝光装置、曝光方法、以及组件制造方法

摘要

本发明涉及曝光装置、曝光方法、以及组件制造方法。本发明的曝光装置，具备在涵盖除了投影光学系统(PL)正下方区域外的晶圆载台(WST1)移动范围的标尺板(21)上，使用晶圆载台(WST1)上搭载的四个读头(601～604)照射测量光束据以测量晶圆载台(WST1)的位置信息的编码器系统。此处，读头(601～604)的配置间隔(A、B)系设定为分别大于标尺板(21)的开口的宽度(ai、bi)。如此，视晶圆载台的位置从四个读头中切换并使用与标尺板对向的三个读头，即能测量晶圆载台的位置信息。

主权项

一种曝光装置，其透过投影光学系统以照明光使基板曝光，其具备有：载台，具有保持该基板的保持具；驱动系统，以该基板可移动于包含在与该投影光学系统的光轴垂直的既定面内相互正交的第1、第2方向的6自由度方向的方式，驱动该载台；测量系统，测量该载台的该6自由度方向的位置信息，其具有设于该载台、且对具有分别形成有反射型光栅的4个部分与开口的标尺构件从其下方分别照射测量光束的4个读头；以及控制系统，根据由该测量系统测量的位置信息，控制该驱动系统的该载台的驱动；该标尺构件，以该投影光学系统位于该开口内的方式设置；该4个读头以其2个读头的间隔大于该开口的宽度的方式配置于该载台；在该基板的曝光动作中该载台移动的移动区域，包含：第1区域，该4个读头中除了第1读头外的3个读头，分别与该4个部分中除了第1部分外的3个部分对向；第2区域，该4个读头中除了与该第1读头不同的第2读头外的3个读头，分别与该4个部分中除了与该第1部分不同的第2部分外的3个部分对向；第3区域，该4个读头中除了与该第1、第2读头不同的第3读头外的3个读头，分别与该4个部分中除了与该第1、第2部分不同的第3部分外的3个部分对向；第4区域，该4个读头中除了与该第1、第2、第3读头不同的第4读头外的3个读头，分别与该4个部分中除了与该第1、第2、第3部分不同的第4部分外的3个部分对向；以及第5区域，该4个读头分别与该4个部分对向；在该曝光动作中，该载台从该第1、第2、第3、第4区域的1个，透过该第5区域，往该第1、第2、第3、第4区域中与该1个区域不同的区域移动；在该不同的区域中，取代在该1个区域中所使用的3个读头的1个，使用该4个读头中与该1个区域中所使用的3个读头不同的其他读头，并且藉由该其他读头、与在该1个区域中所使用的3个读头中除了该1个读头外的2个读头的3个读头，测量该载台的位置信息；该控制系统，在该载台进入于该第5区域内的期间，取代该1个区域中所使用的3个读头，使用在该不同的区域中所使用的3个读头控制该载台的驱动。