[发明专利]两次扫描有效

专利信息
申请号: 201510084685.7 申请日: 2010-05-19
公开(公告)号: CN104810232B 公开(公告)日: 2017-12-29
发明(设计)人: T.范德皮尤特;M.J-J.维兰德 申请(专利权)人: 迈普尔平版印刷IP有限公司
主分类号: H01J37/317 分类号: H01J37/317;G03F7/20
代理公司: 北京市柳沈律师事务所11105 代理人: 高巍
地址: 荷兰*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及二次扫描,具体提出一种根据图案数据将晶片曝光的带电粒子光刻系统,该系统包括电子光学柱,用于生成曝光晶片的多个电子小束,所述电子光学柱包括用于将所述小束接通或切断的小束阻断器阵列;将用于控制所述小束的切换的小束控制数据提供给所述小束阻断器阵列的数据路径;和晶片定位系统,用于在所述电子光学柱下方以x‑方向移动晶片,所述晶片定位系统被提供以来自所述数据路径的同步信号,以将所述晶片与来自所述电子光学柱的电子束对准;其中所述数据路径包括用于处理图案数据并生成所述小束控制数据的一个或多个处理单元和用于将所述小束控制数据传送到所述小束阻断器阵列的一条或多条传输信道。
搜索关键词: 两次 扫描
【主权项】:
一种根据图案数据将晶片曝光的带电粒子光刻系统(100),该系统包括:带电粒子光学柱(102),用于生成曝光晶片的多个带电粒子小束,所述带电粒子光学柱包括孔隙阵列(111),用于从带电粒子源(110)生成的带电粒子束中生成带电粒子小束,所述带电粒子光学柱包括小束阻断器阵列(117)和束光阑阵列(118),所述小束阻断器阵列(117)和束光阑阵列(118)被配置为一起操作以通过阻挡小束或让小束通过而将所述小束接通或切断;生成并发送用于控制所述小束的切换的小束控制数据的数据路径(103);和晶片定位系统(101),用于在所述带电粒子光学柱下方以x‑方向移动晶片,所述晶片定位系统被提供以来自所述数据路径的同步信号,以将所述晶片与来自所述带电粒子光学柱的带电粒子束对准;其中所述数据路径(103)包括:被配置成用于离线处理图案数据以生成中间数据的处理单元,和用于存储中间数据的中央存储单元;被配置成用于接收一部分中间数据并且被配置成用于实时处理所述部分中间数据以生成所述小束控制数据的另外的处理单元;和用于在所述小束控制数据被生成之后立即将所述小束控制数据传送到所述小束阻断器阵列的一条或多条传输信道;其中,所述离线处理包括针对图案数据的渲染处理以获得多级位图格式的中间数据;以及其中,所述实时处理包括针对图案数据的递色处理以获得二级位图格式的所述小束控制数据。
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