[发明专利]一种半导体器件在审

专利信息
申请号: 201510051424.5 申请日: 2015-01-30
公开(公告)号: CN105990340A 公开(公告)日: 2016-10-05
发明(设计)人: 张花威;任小兵 申请(专利权)人: 无锡华润上华半导体有限公司
主分类号: H01L27/092 分类号: H01L27/092
代理公司: 北京市磐华律师事务所 11336 代理人: 汪洋;高伟
地址: 214028 江苏省无*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明提供一种半导体器件,包括:半导体衬底,所述半导体衬底包括氧化埋层以及所述氧化埋层上的体区;所述体区上形成有栅极,所述栅极由第一条状图形、第二条状图形构成,所述第一条状图形与第二条状图形垂直相交;所述栅极将所述体区在平面内分割为源区、漏区、第一体接触区,其中所述源区与漏区对称分布于所述第二条状图形的两侧,所述第一体接触区位于所述第一条状图形的外侧;根据本发明的建议,所述第一体接触区具有较小的面积,使所述第一体接触区与所述第一条状图形相接触的长度小于所述第一条状图形与源区和漏区相接触的长度,且所述第一体接触区与所述第一条状图形相接触的长度为0.42微米。
搜索关键词: 一种 半导体器件
【主权项】:
一种半导体器件,包括:半导体衬底,所述半导体衬底包括氧化埋层以及所述氧化埋层上的体区;所述体区上形成有栅极,所述栅极由第一条状图形、第二条状图形构成,所述第一条状图形与第二条状图形垂直相交;所述栅极将所述体区在平面内分割为源区、漏区、第一体接触区,其中所述源区与漏区对称分布于所述第二条状图形的两侧,所述第一体接触区位于所述第一条状图形的外侧;其特征在于:所述第一体接触区使所述第一体接触区与所述第一条状图形相接触的长度小于所述第一条状图形与源区和漏区相接触的长度,且所述第一体接触区与所述第一条状图形相接触的长度为0.42微米。
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