[发明专利]测量系统和测量方法有效
| 申请号： | 201510046870.7 | 申请日： | 2015-01-29 |
| 公开（公告）号： | CN105988297B | 公开（公告）日： | 2019-03-12 |
| 发明（设计）人： | 伍强;蒋运涛 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B27/10;G01B11/24 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 高静;骆苏华 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种测量系统和测量方法，用于测量掩模在基片中的空间像，其中测量系统包括：照明单元，用于提供照明光，照明光经过掩模后形成初始光；成像单元，用于对初始光进行成像，形成成像光；分束单元，用于将成像光分为投影光和参考光；投影光用于在基片内形成掩模的图像，并经基片反射形成第一反射光；反射单元，用于接收参考光形成第二反射光；所述第二反射光于所述第一反射光相互干涉后形成干涉光；测量单元，用于测量干涉光所形成的空间像。本发明利用光学干涉原理，通过第一反射光和第二反射光的干涉成像，形成铜基片中实际图形完全一样的图形，提高了测量的精度，避免了光刻胶显影等步骤，节省了光刻工艺研发的时间和成本。 | ||
| 搜索关键词： | 测量 系统 测量方法 | ||
【主权项】：
1.一种测量系统，用于测量掩模在基片中的空间像，其特征在于，所述测量系统包括：照明单元，用于提供照明光，所述照明光经过掩模后形成初始光；成像单元，用于对所述初始光进行成像，形成成像光；分束单元，用于将所述成像光分为投影光和参考光；所述投影光投射至基片并在基片内形成所述掩模的图像；所述基片用于使所述投影光反射形成第一反射光，并将所述第一反射光投射至所述分束单元；反射单元，用于接收所述参考光形成第二反射光，并将所述第二反射光投射至所述分束单元；所述第二反射光与所述第一反射光相互干涉后形成干涉光；测量单元，用于测量所述干涉光所形成的空间像。
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