[发明专利]芯片切割方法在审

专利信息
申请号: 201510039555.1 申请日: 2015-01-26
公开(公告)号: CN105895582A 公开(公告)日: 2016-08-24
发明(设计)人: 呼翔;彭坤;陈文甫;赵连国;王海莲;王峰;李磊;吴亮 申请(专利权)人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
主分类号: H01L21/78 分类号: H01L21/78
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 吴贵明;张永明
地址: 201203 *** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 本申请公开了一种芯片切割方法,其包括以下步骤:在待切割晶圆上选定欲切割区;去除欲切割区表面上的钝化层以形成划片槽;以及沿划片槽切割待切割晶圆。该芯片切割方法中,在对待切割晶圆进行切割的步骤之前,先去除了欲切割区上的钝化层。钝化层往往具有较高的应力,且厚度较厚。在切割之前去除这层高应力层,能够降低后期的切割难度,使形成的划片槽更容易被切开。同时,去除这层高应力层,能够改善欲切割区中各层的应力不均匀性问题,使得后期切割的过程中,欲切割区的受力更加均衡,从而能够促使划片槽中产生的微裂纹更加均匀,有利于提高切割痕迹的平整性。以上各方面的因素均能够改善芯片的切割效果,提高芯片的良品率。
搜索关键词: 芯片 切割 方法
【主权项】:
一种芯片切割方法,其特征在于,包括以下步骤:在待切割晶圆上选定欲切割区;去除所述欲切割区表面上的钝化层以形成划片槽;以及沿所述划片槽切割所述待切割晶圆。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中芯国际集成电路制造(上海)有限公司,未经中芯国际集成电路制造(上海)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201510039555.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top