[发明专利]半导体元件及其制作方法在审
| 申请号： | 201510038256.6 | 申请日： | 2015-01-26 |
| 公开（公告）号： | CN105895666A | 公开（公告）日： | 2016-08-24 |
| 发明（设计）人： | 廖伟明 | 申请（专利权）人： | 南亚科技股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L29/06 | 分类号： | H01L29/06;H01L21/82;H01L21/336 |
| 代理公司： | 深圳新创友知识产权代理有限公司 44223 | 代理人： | 江耀纯 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种半导体元件及其制作方法，其中半导体元件具有颈部鳍结构。半导体元件包括一基底；多数个鳍结构，设在该基底上，其中，各该鳍结构具有一下部分和一颈部上部分；以及一绝缘体，设置在该多数个鳍结构之间，与该鳍结构的下部分齐平。 | ||
| 搜索关键词： | 半导体 元件 及其 制作方法 | ||
【主权项】：
一种半导体元件，其特征在于包含：一基底；多数个鳍结构，设在所述基底上，其中，各所述鳍结构具有一下部分和一颈部上部分；以及一绝缘体，设置在多数个所述鳍结构之间，与所述鳍结构的下部分齐平。
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