[发明专利]一种磁聚焦和曲面矫正的高场永磁体磁共振成像磁体系统有效

专利信息
申请号: 201510034691.1 申请日: 2015-01-23
公开(公告)号: CN104599806A 公开(公告)日: 2015-05-06
发明(设计)人: 谢寰彤 申请(专利权)人: 谢寰彤
主分类号: H01F7/02 分类号: H01F7/02;G01R33/383
代理公司: 上海正旦专利代理有限公司 31200 代理人: 陆飞;盛志范
地址: 201806 上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明属磁共振成像技术领域,具体为磁聚焦和曲面矫正的高场永磁体磁共振成像磁体系统。本发明的磁体系统包括磁轭、主磁钢、非球面曲面磁极、堵漏磁钢和侧磁钢;非球面曲面磁极为两块马鞍型旋转曲面,形状相同,对称地分布在磁轭中心部位;两个主磁钢分别位于两个磁极的正后方,堵漏磁钢偏离中心位置,分别位于两个磁极后方、主磁钢的两侧面;侧磁钢分别位于两个磁极的侧面、堵漏磁钢的外侧;主磁钢和堵漏磁钢由高矫顽力的永磁材料制造,侧磁钢由更高矫顽力的永磁材料制造,其矫顽力比主磁钢的矫顽力大20%以上。本发明采用磁聚焦技术,达到高场1.2T-2.1T场强;磁体的均匀场采用曲面矫正,从而得到极高的空间效率和10倍以上的均匀度。
搜索关键词: 一种 聚焦 曲面 矫正 永磁体 磁共振 成像 磁体 系统
【主权项】:
一种磁聚焦和曲面矫正的高场永磁体磁共振成像磁体系统,其特征在于包括磁轭(1)、主磁钢(2)、非球面曲面磁极(3)、堵漏磁钢(4)和侧磁钢(5);非球面曲面磁极(3)为两块,形状相同,对称地分布在磁轭(1)即磁体整体中心部位;两个主磁钢(2)分别位于两个磁极(3)的正后方,堵漏磁钢(4)为4个,偏离中心位置,分别位于两个磁极(3)后方、主磁钢(2)的两侧面;侧磁钢(5)也为4个,分别位于两个磁极(3)的侧面、堵漏磁钢(4)的外侧;主磁钢(2)和堵漏磁钢(4)由高矫顽力的永磁材料制造,侧磁钢(5)由更高矫顽力的永磁材料制造,其矫顽力比主磁钢的矫顽力大20%以上;所述非球面曲面磁极(3)为马鞍面,两个磁极对称放置,两个曲面最突出部分之间的距离d,称为磁极间隙,在任何角度下间隙d的相对误差小于0.3um,两个曲面中心要求高度同心,误差小于 5um,两个曲面要求高度对称,误差小于0.3um。
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