[发明专利]自支撑膜、自支撑结构体、自支撑膜的制造方法有效
| 申请号： | 201510026140.0 | 申请日： | 2011-04-13 |
| 公开（公告）号： | CN104597531B | 公开（公告）日： | 2017-04-12 |
| 发明（设计）人： | 土井诚太郎;岩村贤一郎;生田目卓治 | 申请（专利权）人： | 旭化成株式会社 |
| 主分类号： | G02B1/118 | 分类号： | G02B1/118;G03F1/62 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)11277 | 代理人： | 刘新宇,李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的目的是提供一种自支撑膜，自支撑结构体、自支撑膜的制造方法。该自支撑膜由于单独具有防反射功能而具有优异的光学特性。该自支撑膜为具有在表面上形成了周期性凹凸形状的凹凸结构层的自支撑膜，其特征在于，其具有在至少一个面上形成了周期性凹凸形状的凹凸结构层，平均厚度为0.2μm以上且20.0μm以下，并且所述凹凸结构层的屈服应变为1％以上，且拉伸伸长率为10％以上。 | ||
| 搜索关键词： | 支撑 结构 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种自支撑膜，其特征在于，其具有在至少一个面上形成了周期性凹凸形状的凹凸结构层，厚度平均为0.2μm以上且20.0μm以下，所述凹凸结构层的屈服应变为1％以上，且拉伸伸长率为10％以上，所述凹凸结构层的厚度不平度平均为100nm以下，所述凹凸形状的周期间隔为使用波长的同等程度以下，所述凹凸形状的凸部的高度为所述凹凸形状的周期间隔的0.5倍以上且2.0倍以下。
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