[发明专利]一种SiO2/GO表面金属离子印迹聚合物的制备方法及应用

摘要

本发明提供了一种SiO2/GO表面金属离子印迹聚合物制备方法及应用,属于材料制备技术和分离技术领域；特指以二氧化硅/氧化石墨烯为基底，以金属离子为模板，使用偶联剂、功能单体、交联剂、引发剂，采用可逆加成‑断裂链转移聚合为聚合方式，制备SiO2/GO表面金属离子印迹聚合物；解决了表面聚合物层厚度不可控、吸附位点分布不均匀、模板分子因包埋过深而无法彻底洗脱、吸附速率慢以及链转移剂合成步骤复杂、耗时等问题；主要用于选择性分离水溶液中相应金属离子，且选择性分离效果显著，重复使用次数多。

主权项

一种SiO2/GO表面金属离子印迹聚合物的制备方法，其特征在于包括如下步骤：Ⅰ、二氧化硅/氧化石墨烯SiO2/GO的制备：将氧化石墨烯水溶液和聚乙烯吡咯烷酮加至乙醇中，室温下，磁力搅拌反应30～90min，得溶液A；然后，在溶液A中加入浓氨水和正硅酸四乙酯，超声30～90min，得溶液B；最后，将溶液B置于30～50℃水浴中，反应12～36h结束后，洗涤，干燥，得到二氧化硅/氧化石墨烯SiO2/GO；Ⅱ、功能化氧化石墨烯复合材料SiO2/GO‑MPS的制备：将步骤(Ⅰ)制得的SiO2/GO与硅烷偶联剂加至乙醇中，于30～50℃水浴中反应8～24h，反应结束后，洗涤，干燥,得到功能化氧化石墨烯复合材料SiO2/GO‑MPS；Ⅲ、可逆加成‑断裂链转移剂CTA的制备：在三口烧瓶中，加入苯基溴化镁溶液，置于油浴中预热，通氮气；然后，逐滴加入二硫化碳，维持油浴温度，无氧条件下预反应；加入苄基溴，并升温至反应温度继续反应；反应结束后，冷却至室温，加入冰水，随后用石油醚萃取，收集有机相，得链转移剂CTA；IV、SiO2/GO表面金属离子印迹聚合物的制备：将步骤Ⅱ制得的SiO2/GO‑MPS、步骤Ⅲ制得的CTA、模板离子、功能单体、交联剂、引发剂加入甲醇与水混合液中，在无氧条件下，于油浴中反应，将产物洗涤、干燥，用2mol/L盐酸洗去模板离子，用去离子水洗至中性，干燥。