[发明专利]一种用于高纯氧化铝陶瓷的研磨抛光膏在审
| 申请号： | 201510002172.7 | 申请日： | 2015-01-05 |
| 公开（公告）号： | CN104650741A | 公开（公告）日： | 2015-05-27 |
| 发明（设计）人： | 蔡德奇;周斌;姚相民;朱小伟;马玉琦 | 申请（专利权）人： | 杭州大和热磁电子有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;C09K3/14;C08J5/14 |
| 代理公司： | 杭州杭诚专利事务所有限公司 33109 | 代理人： | 尉伟敏 |
| 地址： | 310053 浙江省杭*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于高纯氧化铝陶瓷的研磨抛光膏，由以下重量份计的原料混合制成：纳米金刚石颗粒2-5份，凡士林150-340份，动物脂肪油200-320份，表面改性剂30-100份。本发明抛光效率高，抛光后的产品表面无划痕，光洁度高，粗糙度小于0.1微米。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 高纯 氧化铝陶瓷 研磨 抛光 | ||
【主权项】：
一种用于高纯氧化铝陶瓷的研磨抛光膏，其特征在于，由以下重量份计的原料混合制成：纳米金刚石颗粒2‑5份，凡士林150‑340份，动物脂肪油200‑320份，表面改性剂30‑100份。
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