[发明专利]处理设备、用于处理设备的处理元件及其操作和实现方法有效
| 申请号： | 201480079553.9 | 申请日： | 2014-06-06 |
| 公开（公告）号： | CN106414310B | 公开（公告）日： | 2020-08-07 |
| 发明（设计）人： | A·德祖拉克;M·维尔德霍斯特;C-W·H·杨 | 申请（专利权）人： | 新南创新私人有限公司 |
| 主分类号： | H01L29/66 | 分类号： | H01L29/66;H03K19/195;G06N10/00;B82Y10/00 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 吕俊刚;李艳芳 |
| 地址： | 澳大利亚新*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 处理设备、用于处理设备的处理元件及其操作和实现方法。一种用于处理设备的处理元件。该处理元件包括硅‑绝缘体界面和用于将一个或更多个量子点限制在半导体中的限制布置。处理元件还具有用于控制一个或更多个量子点的量子特性的控制布置并且将一个或更多个量子点作为量子位来操作以执行量子处理。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 设备 用于 元件 及其 操作 实现 方法 | ||
【主权项】：
一种用于先进处理设备的处理元件，所述处理元件包括：硅和电介质材料，所述硅和所述电介质材料在所述硅与所述电介质材料之间形成界面；限制布置，所述限制布置用于将一个或更多个电子或空穴限制在所述硅中以形成量子点；以及控制布置，所述控制布置用于控制所述量子点的量子特性以将所述量子点作为量子位操作。
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