[发明专利]层叠半导体集成电路装置有效

专利信息
申请号: 201480077088.5 申请日: 2014-12-26
公开(公告)号: CN106104770B 公开(公告)日: 2019-02-15
发明(设计)人: 黑田忠广 申请(专利权)人: 株式会社晶磁电子日本
主分类号: H01L21/3205 分类号: H01L21/3205;H01L21/768;H01L23/522;H01L25/065;H01L25/07;H01L25/18
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 李辉;黄纶伟
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 涉及层叠半导体集成电路装置,通过廉价的结构缩小用于层叠的三维空间,并且提供足够的电源质量。在第1半导体集成电路装置上设置在厚度方向上贯通第1半导体基体并且与第1电源电位连接的第1贯通半导体区域,以及与第2电源电位连接的第2贯通半导体区域,层叠第2半导体集成电路装置,该第2半导体集成电路装置具有分别与第1贯通半导体区域和第2贯通半导体区域连接的第1电极和第2电极。
搜索关键词: 层叠 半导体 集成电路 装置
【主权项】:
1.一种层叠型半导体集成电路装置,其特征在于,该层叠型半导体集成电路装置至少具有第1半导体集成电路装置和第2半导体集成电路装置,该第1半导体集成电路装置具有:厚度为10μm以下的第1半导体基体;第1n型半导体区域,其设于所述第1半导体基体,设置有包括晶体管在内的元件;第1p型半导体区域,其设于所述第1半导体基体,设置有包括晶体管在内的元件;第1贯通半导体区域,其在厚度方向上贯通所述第1半导体基体,并且与第1电源电位连接;以及第2贯通半导体区域,其在厚度方向上贯通所述第1半导体基体,并且与第2电源电位连接,该第2半导体集成电路装置与所述第1半导体集成电路装置形成层叠构造,具有:与第1贯通半导体区域电连接的第1电极;以及与所述第2贯通半导体区域连接的第2电极,所述第1贯通半导体区域和所述第2贯通半导体区域具有高杂质浓度,并且所述第1贯通半导体区域和所述第2贯通半导体区域的电阻值为3mΩ以下。
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