[发明专利]具有改进的光敏性的全息介质有效

专利信息
申请号: 201480075951.3 申请日: 2014-12-16
公开(公告)号: CN106030711B 公开(公告)日: 2019-02-22
发明(设计)人: T.罗勒;H.贝尔内特;F-K.布鲁德;D.赫内尔;T.费克;G.瓦尔策;R.哈根;C.蒂德里希 申请(专利权)人: 科思创德国股份有限公司
主分类号: G11B7/24044 分类号: G11B7/24044;G03F7/00;G03F7/035;G11B7/245;G03F7/027;G03H1/02
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 刘维升;林森
地址: 德国勒*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 发明涉及包含基质聚合物、书写单体和光引发剂并进一步包含式(I)的化合物的新型光聚合物制剂(I)其中A1、A2和A3各自独立地为氢、氟、氯、溴或碘,R1、R2、R3、R4和R5各自独立地为氢、卤素、氰基、硝基、氨基、烷基亚氨基、叠氮基、异氰基、烯胺基、甲酰基、酰基、羧基、羧酸酯、羧酰胺、原酸酯、磺酸酯、磷酸酯、有机磺酰基、有机亚砜基、任选氟代的烷氧基或任选取代的芳族、杂芳族、脂族、芳脂族、烯属或炔属基团,且合适的基团可经任意取代的桥相互连接,或两个或更多个式(I)的化合物可经基团R1、R2、R3、R4和R5的至少一个相接,其中这些基团此时可为2‑至4‑重官能桥,条件是基团R1、R2、R3、R4和R5的至少一个不是氢。本发明的进一步主题是包含基质聚合物、书写单体和光引发剂的光聚合物、包含本发明的光聚合物制剂或可用其获得的全息介质、本发明的全息介质用于制造全息介质的用途以及使用本发明的光聚合物制剂制造全息介质的方法。
搜索关键词: 具有 改进 光敏 全息 介质
【主权项】:
1.包含基质聚合物、书写单体和光引发剂的光聚合物制剂,其特征在于其进一步包含式(I)的化合物     (I)其中A1、A2和A3各自独立地为氢、氟、氯、溴或碘,R1、R2、R3、R4和R5各自独立地为氢、卤素、氰基、硝基、氨基、烷基亚氨基、叠氮基、异氰基、烯胺基、甲酰基、酰基、羧基、羧酸酯、羧酰胺、原酸酯、磺酸酯、磷酸酯、有机磺酰基、有机亚砜基、任选氟代的烷氧基或任选取代的芳族、杂芳族、脂族、芳脂族、烯属或炔属基团,且所述基团可经任意取代的桥相互连接;或两个或更多个式(I)的化合物可经基团R1、R2、R3、R4和R5的至少一个相连,其中这些基团此时可为2‑至4‑重官能桥,条件是基团R1、R2、R3、R4和R5的至少一个不是氢。
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