[发明专利]溴区结构域抑制剂在审

专利信息
申请号: 201480075242.5 申请日: 2014-12-10
公开(公告)号: CN105980392A 公开(公告)日: 2016-09-28
发明(设计)人: 王乐;R.R.弗雷;T.M.汉森;刘大春;W.J.麦克莱伦;K.F.麦克丹尼尔;J.K.普拉特;C.K.瓦达 申请(专利权)人: 艾伯维公司
主分类号: C07D491/22 分类号: C07D491/22;A61K31/4353;A61P35/00;A61P13/12;A61P31/18;A61P3/10
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 权陆军;彭昶
地址: 美国伊*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明提供式(I)的化合物及其可药用盐(I)其中Rx、X、Y、Y1、L1、A1、A2、A3、A4、A5、A6、A7和A8具有说明书中定义的任何值,其可用作疾病和病症,包括炎性疾病、癌症和AIDS的治疗中的药剂。还提供了包含一种或多种式(I)的化合物的药物组合物。
搜索关键词: 结构 抑制剂
【主权项】:
式(I)的化合物或其可药用盐          (I)其中Rx是C1‑C3烷基;Y1是N或CRy,其中Ry是H、卤素、C1‑C3烷基或C1‑C3卤代烷基;A1是N或CR1,A2是N或CR2,A3是N或CR3;且A4是N或CR4;其中A1、A2、A3和A4中的零个、一个或两个是N;A5是N或CR5,A6是N或CR6,A7是N或CR7;且A8是N或CR8;其中A5、A6、A7和A8中的零个、一个或两个是N;R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7和R8各自独立地为氢、卤素、NO2、Ga、C1‑C6卤代烷基、‑CN、‑ORa、‑S(O)2Rc、‑C(O)Ra、‑C(O)ORa、‑S(O)2NRaRb、‑C(O)NRaRb、NRaRb、‑N(Rb)S(O)2Rc、‑N(Rb)C(O)ORc、‑N(Rb)C(O)NRaRb、‑N(Rb)C(O)Rc、C2‑C6烯基、C2‑C6炔基或C1‑C6烷基;其中所述C2‑C6烯基、C2‑C6炔基和C1‑C6烷基任选被选自–CN、‑ORa、‑S(O)2Rc、‑S(O)2NRaRb、‑C(O)Ra、‑C(O)ORa、‑C(O)NRaRb、NRaRb、‑N(Rb)S(O)2Rc、‑N(Rb)C(O)ORc、‑N(Rb)C(O)NRaRb、‑N(Rb)C(O)Rc和Ga的一个取代基取代;X是CR9R10、O或N(R11);Y是O或N(R12);R9和R10各自独立地为氢、卤素、‑CN、C1‑C6卤代烷基、Gb、C1‑C6烷基、‑ORd、‑NRdRe或–C(O)NRdRe;R11和R12各自独立地为氢或C1‑C3烷基;L1是–(CR13R14)m‑W‑(CR15R16)n‑;其中‑(CR15R16)n‑连接到含有A5、A6、A7和A8的环;其中m是1、2或3;n是0、1、2或3;W是键、O、N(R17)、‑CH=CH‑、–C(O)‑N(R18)‑、–S(O)2‑N(R18)‑、‑N(R18)‑C(O)‑或‑N(R18)‑S(O)2‑;其中R17是氢、C1‑C6卤代烷基、Gc、‑S(O)2Rf、‑S(O)2N(Rg)2、‑S(O)2N(Rg)C(O)Rf、‑S(O)2N(Rg)C(O)ORf、‑C(O)Rf、‑C(O)ORf、‑C(O)N(Rg)2、C2‑C6烯基、C2‑C6炔基或C1‑C6烷基;其中所述C2‑C6烯基、C2‑C6炔基和C1‑C6烷基任选被选自–CN、‑ORa、‑S(O)2Ra、‑S(O)2NRaRb、‑C(O)Ra、‑C(O)ORa、‑C(O)NRaRb、NRaRb、‑N(Rb)S(O)2Rc、‑N(Rb)C(O)ORc、‑N(Rb)C(O)NRaRb、‑N(Rb)C(O)Rc和Gc的一个取代基取代;且R18在每次出现时独立地为氢、C1‑C6卤代烷基、Gc、C2‑C6烯基、C2‑C6炔基或C1‑C6烷基;其中所述C2‑C6烯基、C2‑C6炔基和C1‑C6烷基任选被选自–CN、‑ORa、‑S(O)2Ra、‑S(O)2NRaRb、‑C(O)Ra、‑C(O)ORa、‑C(O)NRaRb、NRaRb、‑N(Rb)S(O)2Rc、‑N(Rb)C(O)ORc、‑N(Rb)C(O)NRaRb、‑N(Rb)C(O)Rc和Gc的一个取代基取代;R13和R14在每次出现时各自独立地为氢、卤素、‑CN、C1‑C6卤代烷基、Gb、C1‑C6烷基、‑ORd、‑NRdRe或‑C(O)NRdRe;R13和R14一起可以为氧代基团;R15和R16在每次出现时各自独立地为氢、卤素、‑CN、C1‑C6卤代烷基、Gb、C1‑C6烷基、‑ORd、‑NRdRe或‑C(O)NRdRe;R15和R16一起可以为氧代基团;Ra和Rb在每次出现时各自独立地为氢、C1‑C6烷基、C1‑C6卤代烷基、Ga或‑(C1‑C6亚烷基)‑Ga;Rc在每次出现时独立地为C1‑C6烷基、C1‑C6卤代烷基、Ga或‑(C1‑C6亚烷基)‑Ga;Rd在每次出现时独立地为氢、C1‑C6卤代烷基、Gb或C1‑C6烷基;其中所述C1‑C6烷基任选被选自–CN、‑ORa、‑S(O)2Ra、‑S(O)2NRaRb、‑C(O)Ra、‑C(O)ORa、‑C(O)NRaRb、NRaRb、‑N(Rb)S(O)2Rc、‑N(Rb)C(O)ORc、‑N(Rb)C(O)NRaRb、‑N(Rb)C(O)Rc和Gb的一个取代基取代;Re在每次出现时独立地为氢、C1‑C6烷基、C1‑C6卤代烷基、Gb或‑(C1‑C6亚烷基)‑Gb;Rf在每次出现时独立地为C1‑C6烷基、C1‑C6卤代烷基、Gc或‑(C1‑C6亚烷基)‑Gc;Rg在每次出现时独立地为氢、C1‑C6烷基、C1‑C6卤代烷基、Gc或‑(C1‑C6亚烷基)‑Gc;Ga、Gb和Gc在每次出现时各自独立地为苯基、C3‑C6环烷基、C4‑C6杂环或C5‑C6杂芳基,它们各自任选被1、2、3、4或5个Ru基团取代;Ru在每次出现时独立地为C1‑C6烷基、C2‑C6烯基、C2‑C6炔基、卤素、C1‑C6卤代烷基、‑CN、氧代、NO2、‑ORh、‑OC(O)Ri、‑OC(O)NRjRk、‑SRh、‑S(O)2Rh、‑S(O)2NRjRk、‑C(O)Rh、‑C(O)ORh、‑C(O)NRjRk、‑NRjRk、‑N(Rh)C(O)Ri、‑N(Rh)S(O)2Ri、‑N(Rh)C(O)O(Ri)、‑N(Rh)C(O)NRjRk、–(C1‑C6亚烷基)‑ORh、–(C1‑C6亚烷基)‑OC(O)Ri、‑(C1‑C6亚烷基)‑OC(O)NRjRk、–(C1‑C6亚烷基)‑SRh、–(C1‑C6亚烷基)‑S(O)2Rh、–(C1‑C6亚烷基)‑S(O)2NRjRk、‑(C1‑C6亚烷基)‑C(O)Rh、–(C1‑C6亚烷基)‑C(O)ORh、‑(C1‑C6亚烷基)‑C(O)NRjRk、–(C1‑C6亚烷基)‑NRjRk、–(C1‑C6亚烷基)‑N(Rh)C(O)Ri、‑(C1‑C6亚烷基)‑N(Rh)S(O)2Ri、–(C1‑C6亚烷基)‑N(Rh)C(O)O(Ri)、–(C1‑C6亚烷基)‑N(Rh)C(O)NRjRk或‑(C1‑C6亚烷基)‑CN;Rh、Rj、Rk在每次出现时各自独立地为氢、C1‑C6烷基或C1‑C6卤代烷基;且Ri在每次出现时独立地为C1‑C6烷基或C1‑C6卤代烷基。
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